| 中文摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-18页 |
| 1.1 气敏传感器简介 | 第8-12页 |
| 1.1.1 气敏传感器的定义 | 第8页 |
| 1.1.2 气敏传感器的分类 | 第8-9页 |
| 1.1.3 电阻式气敏传感器的主要特性参数 | 第9-11页 |
| 1.1.4 气体传感器的发展历程 | 第11-12页 |
| 1.2 纳米技术简介及其在传感器中的应用 | 第12-13页 |
| 1.3 计算材料学简介及其在材料研究中的应用 | 第13-15页 |
| 1.3.1 计算材料学简介 | 第13-14页 |
| 1.3.2 计算材料学的发展历程 | 第14-15页 |
| 1.4 选题依据、研究意义以及研究内容 | 第15-18页 |
| 1.4.1 选题依据、研究意义 | 第15-16页 |
| 1.4.2 研究内容 | 第16-18页 |
| 第二章 第一性原理计算方法和分子动力学方法概述 | 第18-25页 |
| 2.1 第一性原理计算方法 | 第18-23页 |
| 2.1.1 Hartree-Fock方法 | 第18-20页 |
| 2.1.1.1 绝热近似 | 第19页 |
| 2.1.1.2 Hartree-Fock近似 | 第19-20页 |
| 2.1.2 密度泛函理论 | 第20-22页 |
| 2.1.2.1 Hohenberg-Kohn定理 | 第20-21页 |
| 2.1.2.2 Kohn-Sham方程 | 第21页 |
| 2.1.2.3 自洽计算 | 第21-22页 |
| 2.1.3 结构优化 | 第22-23页 |
| 2.2 计算软件介绍 | 第23-25页 |
| 2.2.1 Materials Studio软件 | 第23页 |
| 2.2.2 CASTEP模块 | 第23-25页 |
| 第三章 理想WO_3纳米线的NO_2气体吸附性能 | 第25-32页 |
| 3.1 理想WO_3纳米线结构及电子性能计算 | 第25-26页 |
| 3.1.1 理想WO_3纳米线结构 | 第25页 |
| 3.1.2 理想WO_3纳米线优化参数设置 | 第25-26页 |
| 3.1.3 理想WO_3纳米线能带结构和态密 | 第26页 |
| 3.2 理想WO_3纳米线NO_2吸附模型的建立及计算 | 第26-31页 |
| 3.2.1 理想WO_3纳米线的NO_2吸附模型及吸附能 | 第26-28页 |
| 3.2.2 能带结构和DOS分析 | 第28-30页 |
| 3.2.3 电荷布局分布 | 第30-31页 |
| 3.3 本章小结 | 第31-32页 |
| 第四章 WO_3(VO)纳米线的NO_2气体吸附性能 | 第32-43页 |
| 4.1 WO_3(VO)纳米线模型的建立 | 第32-33页 |
| 4.2 WO_3(VO)纳米线NO_2吸附模型的建立及计算 | 第33-41页 |
| 4.2.1 NO_2气体吸附模型的建立 | 第33-36页 |
| 4.2.2 吸附能 | 第36-37页 |
| 4.2.3 能带结构和DOS分析 | 第37-40页 |
| 4.2.4 电荷布局分布 | 第40-41页 |
| 4.3 本章小结 | 第41-43页 |
| 第五章 WO_3(VO)纳米线气体选择性的研究 | 第43-53页 |
| 5.1 引言 | 第43页 |
| 5.2 WO_3(VO)纳米线多气体吸附模型的建立 | 第43-45页 |
| 5.2.1 吸附气体的选择 | 第43-44页 |
| 5.2.2 WO_3(Vo)纳米线多气体吸附模型的建立 | 第44-45页 |
| 5.3 WO_3(VO)纳米线多气体吸附模型的计算 | 第45-50页 |
| 5.3.1 吸附能 | 第45-47页 |
| 5.3.2 态密度分析 | 第47-49页 |
| 5.3.3 电荷布局分布 | 第49-50页 |
| 5.4 气体选择性的分析 | 第50-51页 |
| 5.5 本章小结 | 第51-53页 |
| 第六章 结论与展望 | 第53-55页 |
| 6.1 结论 | 第53页 |
| 6.2 展望 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-59页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
