干湿交替环境中有机涂层失效过程的研究
摘要 | 第1-8页 |
Abstract | 第8-15页 |
第一章 前言 | 第15-37页 |
·有机涂层在防腐中的应用 | 第15页 |
·有机涂层防腐蚀机理 | 第15-17页 |
·有机涂层劣化理论 | 第17-18页 |
·影响涂层保护性能的因素 | 第18-25页 |
·底材处理 | 第18-20页 |
·水渗透 | 第20-22页 |
·氧和离子渗透 | 第22-23页 |
·环境因素 | 第23-24页 |
·阴极极化 | 第24页 |
·干湿循环 | 第24-25页 |
·涂层劣化和涂层下金属腐蚀的研究方法 | 第25-35页 |
·电化学阻抗谱(EIS)技术 | 第26-30页 |
·扫描Kelvin探针(SKP)技术 | 第30-32页 |
·电化学噪声(ENM)技术 | 第32-33页 |
·局部交流阻抗(LEIS)技术 | 第33-34页 |
·阵列电极(WBE)方法 | 第34-35页 |
·课题研究内容及意义 | 第35-37页 |
·研究意义 | 第35-36页 |
·研究内容 | 第36-37页 |
第二章 实验材料与装置 | 第37-43页 |
·试样制备 | 第37-38页 |
·片状试样制备 | 第37页 |
·阵列电极制备 | 第37-38页 |
·涂层制备 | 第38页 |
·化学试剂 | 第38页 |
·实验装置和测试仪器 | 第38-43页 |
·实验装置 | 第38-39页 |
·实验仪器和测试方法 | 第39-43页 |
第三章 全浸泡条件下的涂层劣化研究 | 第43-57页 |
·前言 | 第43页 |
·实验内容和实验方法 | 第43页 |
·结果与讨论 | 第43-56页 |
·涂层失效的EIS演化和等效电路选择 | 第43-47页 |
·裸金属自腐蚀电位和EIS演化 | 第47-49页 |
·涂层电极的自腐蚀电位演化 | 第49-51页 |
·EIS参数随浸泡时间变化 | 第51-53页 |
·涂层/金属界面活性区面积 | 第53-54页 |
·涂层电极表面形貌随时间演化 | 第54-56页 |
·本章小结 | 第56-57页 |
第四章 4h浸泡4h干燥条件下的涂层劣化研究 | 第57-67页 |
·前言 | 第57页 |
·实验内容和实验方法 | 第57页 |
·结果与讨论 | 第57-66页 |
·涂层劣化的EIS演化 | 第58-60页 |
·涂层试样的自腐蚀电位演化 | 第60-61页 |
·EIS参数随干湿循环时间变化 | 第61-63页 |
·涂层/金属界面活性区面积 | 第63-64页 |
·涂层表面形貌随时间演化 | 第64-66页 |
·本章小结 | 第66-67页 |
第五章 12h浸泡12h干燥条件下的涂层劣化研究 | 第67-76页 |
·前言 | 第67页 |
·实验材料和实验条件 | 第67页 |
·结果与讨论 | 第67-75页 |
·涂层失效的EIS演化和等效电路选择 | 第67-70页 |
·涂层试样的自腐蚀电位演化 | 第70-71页 |
·EIS参数随浸泡时间变化 | 第71-73页 |
·界面活性区面积百分比随时间变化 | 第73-74页 |
·涂层电极表面形貌随浸泡时间演化 | 第74-75页 |
·本章小结 | 第75-76页 |
第六章 三种涂层劣化类型的对比分析 | 第76-82页 |
·前言 | 第76页 |
·涂层失效总过程分析 | 第76页 |
·渗水阶段 | 第76-78页 |
·界面腐蚀反应起始阶段 | 第78-79页 |
·基底金属腐蚀发展与涂层失效阶段 | 第79-81页 |
·本章小结 | 第81-82页 |
第七章 缺陷涂层劣化过程研究 | 第82-106页 |
·前言 | 第82页 |
·实验材料和实验条件 | 第82-83页 |
·结果与讨论 | 第83-84页 |
·结果与讨论 | 第84-98页 |
·电极表面电流密度分布和涂层形貌演化 | 第84-88页 |
·缺陷涂层EIS研究 | 第88-98页 |
·单根电极电流密度变化 | 第98-105页 |
·本章小结 | 第105-106页 |
第八章 结论 | 第106-109页 |
·主要结论 | 第106-107页 |
·论文创新点 | 第107页 |
·后续工作建议 | 第107-109页 |
参考文献 | 第109-122页 |
致谢 | 第122-123页 |
个人简历 | 第123页 |
发表的学术论文 | 第123-124页 |