中文摘要 | 第3-4页 |
英文摘要 | 第4-5页 |
1 绪论 | 第8-19页 |
1.1 介孔材料 | 第8-17页 |
1.1.1 介孔材料的概述 | 第8-9页 |
1.1.2 介孔材料的基本特性 | 第9页 |
1.1.3 介孔材料的材料制备方法 | 第9-10页 |
1.1.4 介孔材料的表征 | 第10页 |
1.1.5 介孔材料的形貌研究 | 第10-14页 |
1.1.6 介孔材料的改性 | 第14-15页 |
1.1.7 介孔材料的应用 | 第15-17页 |
1.2 介孔TiO_2的概述 | 第17页 |
1.3 介孔TiO_2作为光催化剂的应用 | 第17-19页 |
2 本课题研究的目的、意义及主要内容 | 第19-23页 |
2.1 课题的研究目的意义 | 第19页 |
2.2 国内外研究现状 | 第19-21页 |
2.3 课题的研究内容 | 第21-23页 |
3 实验 | 第23-30页 |
3.1 材料的制备 | 第23-26页 |
3.1.1 试剂与仪器 | 第23-24页 |
3.1.2 介孔TiO_2的制备(采用单因素优化法) | 第24-25页 |
3.1.3 不同F含量的介孔F-MT的制备 | 第25-26页 |
3.1.4 不同Co含量的介孔Co-MT的制备 | 第26页 |
3.1.5 介孔F-Co-MT的制备 | 第26页 |
3.2 材料的表征 | 第26-27页 |
3.3 光催化剂光催化降解甲基橙(MO)性能研究 | 第27-29页 |
3.3.1 光催化降解MO实验 | 第27-29页 |
3.4 光催化剂稳定性及光催化机理研究 | 第29-30页 |
3.4.1 2%F-MT重复使用性测定 | 第29页 |
3.4.2 2%F-MT自由基捕获实验 | 第29-30页 |
4 讨论 | 第30-48页 |
4.1 表征图谱的分析 | 第30-40页 |
4.1.1 XRD图谱分析 | 第30-33页 |
4.1.2 FT-IR图谱分析 | 第33-34页 |
4.1.3 低温N_2吸附-脱附曲线分析 | 第34-36页 |
4.1.4 SEM分析 | 第36-37页 |
4.1.5 差热-热重分析 | 第37-39页 |
4.1.6 Zeta电位分析 | 第39-40页 |
4.3 不同的介孔TiO_2对MO的光催化降解 | 第40-45页 |
4.3.1 空白实验 | 第40页 |
4.3.2 掺杂量的影响 | 第40-42页 |
4.3.3 不同催化剂的催化降解率 | 第42页 |
4.3.4 MO溶液pH的影响 | 第42-43页 |
4.3.5 MO溶液浓度的影响 | 第43-44页 |
4.3.6 光催化降解时间的影响 | 第44-45页 |
4.4 光催化剂稳定性及光催化机理研究 | 第45-48页 |
4.4.1 2%F-MT的重复使用性研究 | 第45页 |
4.4.2 2%F-MT催化机理研究 | 第45-48页 |
5 结论与展望 | 第48-51页 |
5.1 结论 | 第48-50页 |
5.2 展望 | 第50-51页 |
致谢 | 第51-52页 |
参考文献 | 第52-60页 |
附录 | 第60页 |