摘要 | 第5-7页 |
ABSTRACT | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第11-21页 |
1.1 引言 | 第11页 |
1.2 聚四氟乙烯性能的优缺点 | 第11-12页 |
1.3 聚四氟乙烯的改性 | 第12-15页 |
1.3.1 填充改性 | 第12-13页 |
1.3.2 共混改性 | 第13-14页 |
1.3.3 表面改性 | 第14-15页 |
1.4 低温等离子体简介 | 第15-16页 |
1.4.1 低温等离子体的基本概念 | 第15页 |
1.4.2 低温等离子体的产生方法 | 第15页 |
1.4.3 低温等离子体的应用 | 第15-16页 |
1.5 低温等离子体接枝聚合 | 第16-17页 |
1.6 聚四氟乙烯的化学镀铜 | 第17-19页 |
1.6.1 甲醛还原铜机理 | 第18页 |
1.6.2 甲醛还原铜的副反应以及解决方法 | 第18-19页 |
1.6.3 化学镀铜的优缺点及应用 | 第19页 |
1.7 本课题的研究的内容及意义 | 第19-21页 |
1.7.1 课题的提出 | 第19页 |
1.7.2 研究内容 | 第19-20页 |
1.7.3 创新点 | 第20-21页 |
第二章 低温等离子体处理聚四氟乙烯微孔膜的自由基研究 | 第21-31页 |
2.1 前言 | 第21页 |
2.2 实验部分 | 第21-22页 |
2.2.1 实验材料与仪器 | 第21-22页 |
2.2.2 低温等离子体对PTFE微孔膜的处理 | 第22页 |
2.2.3 ESR测试 | 第22页 |
2.3 结果与讨论 | 第22-28页 |
2.3.1 低温等离子体处理PTFE微孔膜的自由基的归属 | 第22-23页 |
2.3.2 低温等离子体处理条件对自由基浓度的影响 | 第23-26页 |
2.3.2.1 处理时间对自由基浓度的影响 | 第23-24页 |
2.3.2.2 射频功率对自由基浓度的影响 | 第24-25页 |
2.3.2.3 处理气氛对自由基浓度的影响 | 第25-26页 |
2.3.3 储存温度对自由基稳定性的影响 | 第26-28页 |
2.4 本章小结 | 第28-31页 |
第三章 聚四氟乙烯微孔膜低温等离子体接枝丙烯酸改性 | 第31-43页 |
3.1 引言 | 第31页 |
3.2 实验部分 | 第31-33页 |
3.2.1 实验材料与仪器 | 第31-32页 |
3.2.2 实验方法 | 第32页 |
3.2.3 PTFE-g-PAAc微孔膜的表征 | 第32-33页 |
3.3 结果与讨论 | 第33-41页 |
3.3.1 反应条件对接枝率的影响 | 第33-36页 |
3.3.2 PTFE微孔膜接枝前后的化学结构 | 第36页 |
3.3.3 接枝前后PTFE微孔膜表面晶体结构变化 | 第36-37页 |
3.3.4 接枝改性后的PTFE微孔膜的热稳定性 | 第37-38页 |
3.3.5 PTFE微孔膜亲水性变化 | 第38页 |
3.3.6 PTFE微孔膜的水通量 | 第38-39页 |
3.3.7 PTFE微孔膜接枝改性前后的表面形貌 | 第39-41页 |
3.4 本章小结 | 第41-43页 |
第四章 低温等离子体接枝改性的聚四氟乙烯薄膜表面无钯化学镀铜研究 | 第43-55页 |
4.1 引言 | 第43页 |
4.2 实验部分 | 第43-46页 |
4.2.1 实验材料与仪器 | 第43-44页 |
4.2.2 实验方法 | 第44-45页 |
4.2.3 表征测试 | 第45-46页 |
4.3 结果与讨论 | 第46-54页 |
4.3.1 PTFE薄膜接枝前后的化学结构 | 第46页 |
4.3.2 温度和时间对镀铜的影响 | 第46-48页 |
4.3.3 PTFE薄膜接枝后镀铜的表面形貌 | 第48-49页 |
4.3.4 PTFE薄膜接枝后镀铜的表面元素分析 | 第49-50页 |
4.3.5 镀铜前后PTFE薄膜表面晶体结构变化 | 第50-51页 |
4.3.6 镀铜PTFE薄膜的热稳定性 | 第51-52页 |
4.3.7 铜层与改性后的PTFE薄膜的粘附性以及镀铜PTFE薄膜的导电性 | 第52-54页 |
4.4 本章小结 | 第54-55页 |
第五章 结论和展望 | 第55-57页 |
5.1 结论 | 第55-56页 |
5.1.1 低温等离子体处理聚四氟乙烯微孔膜的自由基研究 | 第55页 |
5.1.2 聚四氟乙烯微孔膜低温等离子体接枝丙烯酸改性 | 第55页 |
5.1.3 低温等离子体接枝改性的聚四氟乙烯薄膜表面无钯化学镀铜研究 | 第55-56页 |
5.2 建议及展望 | 第56-57页 |
参考文献 | 第57-62页 |
攻读硕士期间发表的论文 | 第62-63页 |
致谢 | 第63页 |