| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-21页 |
| 1.1 纳米材料的介绍 | 第10-13页 |
| 1.1.1 纳米材料的概念 | 第10页 |
| 1.1.2 纳米材料的基本理论 | 第10-11页 |
| 1.1.3 纳米材料的结构及其物理、化学特性 | 第11-13页 |
| 1.2 氧化铈的介绍 | 第13-20页 |
| 1.2.1 氧化铈的简介 | 第13-14页 |
| 1.2.2 氧化铈的研究现状 | 第14-17页 |
| 1.2.3 氧化铈的合成方法 | 第17-20页 |
| 1.3 选题意义及本文的主要内容 | 第20-21页 |
| 第二章 CeO_2及掺杂型CeO_2薄膜的制备及表征 | 第21-29页 |
| 2.1 薄膜的制备 | 第21-25页 |
| 2.1.1 衬底的清洗 | 第21页 |
| 2.1.2 参数设置 | 第21-25页 |
| 2.1.3 薄膜制备 | 第25页 |
| 2.2 表征设备介绍 | 第25-29页 |
| 2.2.1 X射线衍射（XRD）设备 | 第25-27页 |
| 2.2.2 扫描电子显微镜（SEM）设备 | 第27页 |
| 2.2.3 原子力显微镜（AFM）设备 | 第27-29页 |
| 第三章 沉积条件对氧化铈薄膜结构与形貌的影响 | 第29-44页 |
| 3.1 气体流量比对氧化铈薄膜结构与形貌的影响 | 第29-34页 |
| 3.1.1 XRD图谱分析 | 第29-31页 |
| 3.1.2 SEM图谱分析 | 第31-34页 |
| 3.2 溅射压强对氧化铈薄膜结构与形貌的影响 | 第34-38页 |
| 3.2.1 XRD图谱分析 | 第34-35页 |
| 3.2.2 SEM图谱分析 | 第35-38页 |
| 3.3 沉积温度对氧化铈薄膜结构与形貌的影响 | 第38-43页 |
| 3.3.1 XRD图谱分析 | 第38-39页 |
| 3.3.2 SEM图谱分析 | 第39-43页 |
| 3.4 本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章 N掺杂及Mg掺杂CeO_2薄膜研究 | 第44-55页 |
| 4.1 对氧化铈进行N离子掺杂 | 第44-50页 |
| 4.1.1 XRD图谱分析 | 第45-47页 |
| 4.1.2 SEM图谱分析 | 第47-50页 |
| 4.2 对氧化铈进行Mg离子掺杂 | 第50-54页 |
| 4.2.1 XRD图谱分析 | 第50-51页 |
| 4.2.2 SEM图谱分析 | 第51-54页 |
| 4.3 本章小结 | 第54-55页 |
| 第五章 氧化铈薄膜生长的动力学标度理论研究 | 第55-70页 |
| 5.1 薄膜生长介绍 | 第55页 |
| 5.2 动力学标度理论介绍 | 第55-56页 |
| 5.3 A组氧化铈薄膜的生长 | 第56-62页 |
| 5.3.1 XRD图谱分析 | 第56-57页 |
| 5.3.2 SEM图谱分析 | 第57-60页 |
| 5.3.3 AFM图谱分析 | 第60-62页 |
| 5.4 B组氧化铈的表征分析 | 第62-69页 |
| 5.4.1 XRD图谱分析 | 第62-63页 |
| 5.4.2 SEM图谱分析 | 第63-67页 |
| 5.4.3 AFM图谱分析 | 第67-69页 |
| 5.5 本章小结 | 第69-70页 |
| 第六章 总结 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
| 作者简介 | 第77-78页 |
| 攻读硕士学位期间研究成果 | 第78页 |