| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-17页 |
| 1.1 碳化硅陶瓷材料 | 第10-15页 |
| 1.1.1 碳化硅陶瓷的烧结技术 | 第10-13页 |
| 1.1.2 碳化硅陶瓷的补强增韧 | 第13-15页 |
| 1.2 相图研究的背景和意义 | 第15页 |
| 1.3 碳化硅陶瓷相图的研究现状 | 第15-16页 |
| 1.4 本课题的主要内容、目的和意义 | 第16-17页 |
| 第二章 试验材料及方法 | 第17-24页 |
| 2.1 试验原料及设备 | 第17-18页 |
| 2.1.1 试验原料 | 第17页 |
| 2.1.2 试验设备 | 第17-18页 |
| 2.2 样品制备 | 第18-19页 |
| 2.2.1 组分设计与粉料准备 | 第18页 |
| 2.2.2 干压成型 | 第18页 |
| 2.2.3 冷等静压 | 第18-19页 |
| 2.2.4 烧结 | 第19页 |
| 2.2.5 预处理 | 第19页 |
| 2.3 样品测试 | 第19-23页 |
| 2.3.1 物相鉴定 | 第19-20页 |
| 2.3.2 烧失率 | 第20页 |
| 2.3.3 线收缩率 | 第20页 |
| 2.3.4 密度测定 | 第20-21页 |
| 2.3.5 硬度及断裂韧性 | 第21-22页 |
| 2.3.6 抗弯强度测定 | 第22-23页 |
| 2.3.7 显微结构和能谱分析 | 第23页 |
| 2.4 本章小结 | 第23-24页 |
| 第三章 纯Pr_2O_3的制备及其特性 | 第24-28页 |
| 3.1 氧化镨原粉 | 第24页 |
| 3.2 纯Pr_2O_3的制备 | 第24-26页 |
| 3.3 纯Pr_2O_3的储存 | 第26-27页 |
| 3.4 本章小结 | 第27-28页 |
| 第四章 SiC-Al_2O_3-Pr_2O_3-SiO_2系统相关系及应用 | 第28-44页 |
| 4.1 SiC-Al_2O_3-Pr_2O_3-SiO_2系统相关系 | 第28-35页 |
| 4.1.1 二元子系统相关系 | 第29-30页 |
| 4.1.2 三元子系统相关系 | 第30-34页 |
| 4.1.3 四元系统相关系 | 第34-35页 |
| 4.2 添加Al_2O_3-Pr_2O_3助剂的SiC陶瓷性能 | 第35-43页 |
| 4.2.1 烧失率 | 第36-37页 |
| 4.2.2 线收缩率 | 第37-38页 |
| 4.2.3 相对密度 | 第38-39页 |
| 4.2.4 硬度 | 第39-40页 |
| 4.2.5 断裂韧性 | 第40-41页 |
| 4.2.6 抗弯强度 | 第41-42页 |
| 4.2.7 显微结构 | 第42-43页 |
| 4.3 本章小结 | 第43-44页 |
| 第五章 SiC-AlN-Pr_2O_3-Al_2O_3系统相关系及应用 | 第44-59页 |
| 5.1 SiC-AlN-Pr_2O_3-Al_2O_3系统相关系 | 第44-51页 |
| 5.1.1 二元子系统相关系 | 第45-46页 |
| 5.1.2 三元子系统相关系 | 第46-50页 |
| 5.1.3 四元系统相关系 | 第50-51页 |
| 5.2 添加AlN-Pr_2O_3助剂的SiC陶瓷性能 | 第51-57页 |
| 5.2.1 烧失率 | 第52页 |
| 5.2.2 线收缩率 | 第52-53页 |
| 5.2.3 相对密度 | 第53-54页 |
| 5.2.4 硬度 | 第54-55页 |
| 5.2.5 断裂韧性 | 第55-56页 |
| 5.2.6 抗弯强度 | 第56页 |
| 5.2.7 显微结构 | 第56-57页 |
| 5.3 本章小结 | 第57-59页 |
| 结论 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 个人简介 | 第67页 |
