摘要 | 第5-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第10-19页 |
1.1 研究背景及意义 | 第10-13页 |
1.2 国内外研究现状 | 第13-14页 |
1.3 霍尔推力器壁面材料研究现状 | 第14-16页 |
1.4 霍尔推力器磁场研究现状 | 第16-18页 |
1.5 论文研究内容及章节安排 | 第18-19页 |
第2章 霍尔推力器全通道放电物理模型 | 第19-29页 |
2.1 引言 | 第19页 |
2.2 二维轴对称物理模型 | 第19-23页 |
2.2.1 麦克斯韦方程组 | 第20-21页 |
2.2.2 粒子碰撞模型 | 第21页 |
2.2.3 原子流体方程 | 第21-22页 |
2.2.4 二次电子发射模型 | 第22-23页 |
2.3 数值模拟方法 | 第23-25页 |
2.3.1 初始粒子布置 | 第23-24页 |
2.3.2 电荷网格分配方法 | 第24页 |
2.3.3 泊松方程数值求解 | 第24-25页 |
2.3.4 粒子运动方程数值求解 | 第25页 |
2.4 边界条件 | 第25-27页 |
2.5 计算流程 | 第27-28页 |
2.6 本章小结 | 第28-29页 |
第3章 分割高发射绝缘壁面材料对霍尔推力器放电特性的影响 | 第29-41页 |
3.1 引言 | 第29页 |
3.2 分割碳化硅绝缘材料对等离子体空间分布特性的影响 | 第29-36页 |
3.2.1 离子数密度及电势分布 | 第30-31页 |
3.2.2 离子径向速度分布 | 第31-32页 |
3.2.3 通道轴向加速电场及离子轴向速度分布 | 第32-34页 |
3.2.4 电子温度分布规律 | 第34-36页 |
3.3 电子与壁面碰撞频率及电离率分布特性 | 第36-38页 |
3.3.1 电子与壁面碰撞频率变化规律 | 第36-37页 |
3.3.2 电离率轴向分布特性 | 第37-38页 |
3.4 壁面分割长度对比冲和推力的影响 | 第38-39页 |
3.5 不同发射特性绝缘壁面分割效应的比较 | 第39-40页 |
3.6 本章小结 | 第40-41页 |
第4章 磁场强度对霍尔推力器性能影响研究 | 第41-50页 |
4.1 引言 | 第41页 |
4.2 不同磁场强度下粒子数密度及速度空间分布特性 | 第41-44页 |
4.2.1 粒子数密度及电势空间分布规律 | 第41-43页 |
4.2.2 离子径向速度空间分布 | 第43-44页 |
4.3 磁场强度对电子温度及电离率影响 | 第44-48页 |
4.3.1 电子温度空间分布 | 第45-46页 |
4.3.2 电子与壁面碰撞频率特性 | 第46-47页 |
4.3.3 电离率轴向分布特性 | 第47-48页 |
4.4 不同磁场强度放电电流及推力变化规律 | 第48-49页 |
4.5 本章小结 | 第49-50页 |
第5章 磁场位形对霍尔推力器放电特性的影响 | 第50-57页 |
5.1 引言 | 第50-51页 |
5.2 离子数密度及径向速度空间分布 | 第51-53页 |
5.3 电子数密度及电子温度空间分布 | 第53-55页 |
5.4 不同磁场位形下电离率轴向分布特性 | 第55页 |
5.5 磁场位形对放电电流的影响 | 第55-56页 |
5.6 本章小结 | 第56-57页 |
结论与展望 | 第57-59页 |
参考文献 | 第59-65页 |
攻读学位期间公开发表论文 | 第65-66页 |
致谢 | 第66页 |