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通道壁面材料布置及磁场对霍尔推力器放电特性影响研究

摘要第5-6页
ABSTRACT第6-7页
第1章 绪论第10-19页
    1.1 研究背景及意义第10-13页
    1.2 国内外研究现状第13-14页
    1.3 霍尔推力器壁面材料研究现状第14-16页
    1.4 霍尔推力器磁场研究现状第16-18页
    1.5 论文研究内容及章节安排第18-19页
第2章 霍尔推力器全通道放电物理模型第19-29页
    2.1 引言第19页
    2.2 二维轴对称物理模型第19-23页
        2.2.1 麦克斯韦方程组第20-21页
        2.2.2 粒子碰撞模型第21页
        2.2.3 原子流体方程第21-22页
        2.2.4 二次电子发射模型第22-23页
    2.3 数值模拟方法第23-25页
        2.3.1 初始粒子布置第23-24页
        2.3.2 电荷网格分配方法第24页
        2.3.3 泊松方程数值求解第24-25页
        2.3.4 粒子运动方程数值求解第25页
    2.4 边界条件第25-27页
    2.5 计算流程第27-28页
    2.6 本章小结第28-29页
第3章 分割高发射绝缘壁面材料对霍尔推力器放电特性的影响第29-41页
    3.1 引言第29页
    3.2 分割碳化硅绝缘材料对等离子体空间分布特性的影响第29-36页
        3.2.1 离子数密度及电势分布第30-31页
        3.2.2 离子径向速度分布第31-32页
        3.2.3 通道轴向加速电场及离子轴向速度分布第32-34页
        3.2.4 电子温度分布规律第34-36页
    3.3 电子与壁面碰撞频率及电离率分布特性第36-38页
        3.3.1 电子与壁面碰撞频率变化规律第36-37页
        3.3.2 电离率轴向分布特性第37-38页
    3.4 壁面分割长度对比冲和推力的影响第38-39页
    3.5 不同发射特性绝缘壁面分割效应的比较第39-40页
    3.6 本章小结第40-41页
第4章 磁场强度对霍尔推力器性能影响研究第41-50页
    4.1 引言第41页
    4.2 不同磁场强度下粒子数密度及速度空间分布特性第41-44页
        4.2.1 粒子数密度及电势空间分布规律第41-43页
        4.2.2 离子径向速度空间分布第43-44页
    4.3 磁场强度对电子温度及电离率影响第44-48页
        4.3.1 电子温度空间分布第45-46页
        4.3.2 电子与壁面碰撞频率特性第46-47页
        4.3.3 电离率轴向分布特性第47-48页
    4.4 不同磁场强度放电电流及推力变化规律第48-49页
    4.5 本章小结第49-50页
第5章 磁场位形对霍尔推力器放电特性的影响第50-57页
    5.1 引言第50-51页
    5.2 离子数密度及径向速度空间分布第51-53页
    5.3 电子数密度及电子温度空间分布第53-55页
    5.4 不同磁场位形下电离率轴向分布特性第55页
    5.5 磁场位形对放电电流的影响第55-56页
    5.6 本章小结第56-57页
结论与展望第57-59页
参考文献第59-65页
攻读学位期间公开发表论文第65-66页
致谢第66页

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