| 致谢 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第13-33页 |
| 1.1 石墨烯概述 | 第13-18页 |
| 1.1.1 石墨烯的结构 | 第13-14页 |
| 1.1.2 石墨烯的性质 | 第14-18页 |
| 1.2 石墨烯的制备 | 第18-23页 |
| 1.2.1 各种制备方法简介 | 第18-20页 |
| 1.2.2 化学气相沉积法概述 | 第20-23页 |
| 1.3 石墨烯的表征 | 第23-29页 |
| 1.3.1 光学显微镜法 | 第23-26页 |
| 1.3.2 拉曼光谱法 | 第26-27页 |
| 1.3.3 扫描电子显微镜法 | 第27-28页 |
| 1.3.4 透射电子显微镜法 | 第28页 |
| 1.3.5 原子力显微镜法 | 第28-29页 |
| 1.4 本论文选题及研究内容 | 第29-33页 |
| 1.4.1 本论文选题 | 第29-30页 |
| 1.4.2 研究内容 | 第30-33页 |
| 第二章 石墨烯新型多层表征方法 | 第33-49页 |
| 2.1 引言 | 第33页 |
| 2.2 实验方法 | 第33-35页 |
| 2.2.1 石墨烯的制备 | 第33-34页 |
| 2.2.2 石墨烯的转移 | 第34页 |
| 2.2.3 石墨烯新型多层表征方法 | 第34-35页 |
| 2.2.4 石墨烯的常规表征 | 第35页 |
| 2.3 实验结果与讨论 | 第35-47页 |
| 2.3.1 参数影响 | 第36-40页 |
| 2.3.2 机理研究 | 第40-47页 |
| 2.4 小结 | 第47-49页 |
| 第三章 单点形核大面积单晶石墨烯制备 | 第49-67页 |
| 3.1 引言 | 第49-50页 |
| 3.2 实验方法 | 第50-52页 |
| 3.2.1 石墨烯的低压CVD法制备 | 第50-51页 |
| 3.2.2 石墨烯的转移 | 第51-52页 |
| 3.2.3 石墨烯的表征 | 第52页 |
| 3.3 实验结果与讨论 | 第52-64页 |
| 3.3.1 氢气对生长尺寸和速率的影响 | 第55-58页 |
| 3.3.2 氢气对形核数量的影响 | 第58-59页 |
| 3.3.3 氢气对多层形成的影响 | 第59-60页 |
| 3.3.4 生长机理 | 第60-61页 |
| 3.3.5 两步法制备 | 第61-63页 |
| 3.3.6 毫米尺度晶畴的多晶石墨烯的制备 | 第63-64页 |
| 3.4 小结 | 第64-67页 |
| 第四章 多点形核大面积单晶石墨烯制备 | 第67-79页 |
| 4.1 引言 | 第67-68页 |
| 4.2 实验方法 | 第68-69页 |
| 4.2.1 石墨烯的常压CVD法制备 | 第68页 |
| 4.2.2 石墨烯的转移 | 第68页 |
| 4.2.3 石墨烯的表征 | 第68-69页 |
| 4.3 实验结果与讨论 | 第69-78页 |
| 4.3.1 石墨烯畴界的表征 | 第71-73页 |
| 4.3.2 铜晶粒对石墨烯取向的影响 | 第73-75页 |
| 4.3.3 生长机理 | 第75-77页 |
| 4.3.4 基于多点成核的厘米尺度单晶石墨烯的制备 | 第77-78页 |
| 4.4 小结 | 第78-79页 |
| 第五章 总结与展望 | 第79-81页 |
| 5.1 总结 | 第79-80页 |
| 5.2 展望 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-92页 |
| 作者简历 | 第92页 |
| 攻读硕士学位期间的主要研究成果 | 第92页 |