| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 1 绪论 | 第10-26页 |
| ·电致变色及电致变色器件 | 第10-14页 |
| ·电致变色材料 | 第11-12页 |
| ·电致变色器件 | 第12-14页 |
| ·电致变色性能指标 | 第14页 |
| ·电致变色WO_3薄膜研究现状 | 第14-22页 |
| ·WO_3薄膜结构 | 第14-15页 |
| ·WO_3薄膜电致变色机理研究现状 | 第15-17页 |
| ·磁控溅射制备WO_3薄膜研究现状 | 第17-22页 |
| ·WO_3薄膜基全固态器件研究现状 | 第22-24页 |
| ·论文研究内容及意义 | 第24-26页 |
| ·研究内容 | 第24页 |
| ·研究意义 | 第24-26页 |
| 2 薄膜的制备方法及表征技术 | 第26-30页 |
| ·薄膜的磁控溅射制备方法 | 第26-27页 |
| ·薄膜表征测试方法 | 第27-30页 |
| ·X射线衍射 | 第27页 |
| ·场发射扫描电子显微镜 | 第27-28页 |
| ·光学性能测试 | 第28-29页 |
| ·电致变色性能测试 | 第29-30页 |
| 3 磁控溅射WO_3薄膜制备与成分结构表征 | 第30-36页 |
| ·WO_3/ITO的制备 | 第30页 |
| ·WO_3薄膜X射线衍射分析 | 第30-32页 |
| ·WO_3薄膜SEM分析 | 第32-34页 |
| ·WO_3薄膜的折射率及密度 | 第34-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 4 磁控溅射WO_3薄膜的电致变色性能 | 第36-42页 |
| ·WO_3薄膜电致变色反应三电极体系 | 第36页 |
| ·磁控溅射WO_3薄膜的循环伏安特性 | 第36-39页 |
| ·磁控溅射WO_3薄膜的电致变色时间响应及光学调制特性 | 第39-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 5 磁控溅射WO_3电致变色薄膜循环寿命 | 第42-47页 |
| ·引言 | 第42页 |
| ·SiO_2保护层的制备及对WO_3薄膜循环伏安特性的影响 | 第42-43页 |
| ·SiO_2保护层对WO_3薄膜在无机H~+电解质中循环寿命的影响 | 第43-44页 |
| ·SiO_2保护层对WO_3薄膜在有机Li~+电解质中循环寿命的影响 | 第44-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 6 WO_3薄膜基固态电致变色器件 | 第47-50页 |
| ·Glass/ITO/WO_3/Gel Electrolyte/ITO/Glass电致变色器件的组装 | 第47页 |
| ·Glass/ITO/WO_3/Gel Electrolyte/ITO/Glass器件的电致变色性能 | 第47-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 结论 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-58页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59页 |
