固体钽电容器Ta2O5介质氧化膜技术研究
摘要 | 第1-7页 |
ABSTRACT | 第7-12页 |
符号对照表 | 第12-13页 |
缩略语对照表 | 第13-17页 |
第一章 绪论 | 第17-23页 |
·固体钽电容器的发展及主要研究方向 | 第17-20页 |
·固体钽电容器的发展 | 第17页 |
·主要研究方向 | 第17-20页 |
·论文选题目的以及研究的意义 | 第20页 |
·论文研究的主要内容 | 第20-23页 |
第二章 固体钽电解电容器介绍 | 第23-31页 |
·固体钽电解电容器主要电参数介绍 | 第23-25页 |
·电容量 | 第23页 |
·损耗角正切值 | 第23-24页 |
·漏电流 | 第24页 |
·额定电压 | 第24-25页 |
·等效串联电阻 | 第25页 |
·等效串联电感 | 第25页 |
·固体钽电解电容器工艺流程介绍 | 第25-31页 |
·混粉及成型 | 第25-26页 |
·烧结 | 第26页 |
·形成 | 第26-27页 |
·被膜 | 第27-28页 |
·被覆石墨、银浆 | 第28页 |
·封装 | 第28-29页 |
·老练和老化 | 第29-31页 |
第三章 Ta_2O_5阳极氧化膜制造技术的研究 | 第31-45页 |
·实验设备、检测仪器和电参数测量条件介绍 | 第31-32页 |
·实验设备 | 第31页 |
·检测仪器 | 第31-32页 |
·电参数测量条件 | 第32页 |
·Ta_2O_5阳极氧化膜的晶化现象 | 第32-33页 |
·晶化的机理 | 第32页 |
·晶化对产品电性能的影响 | 第32-33页 |
·杂质氧含量对Ta_2O_5阳极氧化膜形成的影响 | 第33-35页 |
·实验流程 | 第33页 |
·实验结果及分析 | 第33-35页 |
·结论 | 第35页 |
·不同比例柠檬酸对氧化膜的影响 | 第35-37页 |
·实验流程 | 第36页 |
·实验结果及分析 | 第36页 |
·结论 | 第36-37页 |
·磷酸浓度对氧化膜的影响 | 第37-38页 |
·实验流程 | 第37页 |
·实验结果及分析 | 第37-38页 |
·结论 | 第38页 |
·形成温度对氧化膜的影响 | 第38-39页 |
·实验流程 | 第38页 |
·实验结果及分析 | 第38-39页 |
·结论 | 第39页 |
·电流密度及恒压时间对氧化膜的影响 | 第39-40页 |
·形成电压对氧化膜的影响 | 第40页 |
·热处理及补形成对氧化膜的影响 | 第40-43页 |
·实验流程 | 第41页 |
·实验结果及分析 | 第41-43页 |
·结论 | 第43页 |
·二次形成对氧化膜的强化 | 第43-45页 |
·实验流程 | 第43页 |
·实验结果及分析 | 第43-44页 |
·结论 | 第44-45页 |
第四章 生产过程优化 | 第45-49页 |
·成型、烧结的优化 | 第45页 |
·形成的优化 | 第45-46页 |
·被膜的优化 | 第46-47页 |
·热分解温度和时间 | 第46页 |
·被膜环境 | 第46-47页 |
·硝酸锰的浸渍效果与热分解次数 | 第47页 |
·硝酸锰浓度 | 第47页 |
·中间补形成 | 第47页 |
·封装的优化 | 第47-48页 |
·电老化技术的优化 | 第48-49页 |
第五章 结论与展望 | 第49-51页 |
·结论 | 第49-50页 |
·展望 | 第50-51页 |
参考文献 | 第51-53页 |
致谢 | 第53-55页 |
作者简介 | 第55页 |