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固体钽电容器Ta2O5介质氧化膜技术研究

摘要第1-7页
ABSTRACT第7-12页
符号对照表第12-13页
缩略语对照表第13-17页
第一章 绪论第17-23页
   ·固体钽电容器的发展及主要研究方向第17-20页
     ·固体钽电容器的发展第17页
     ·主要研究方向第17-20页
   ·论文选题目的以及研究的意义第20页
   ·论文研究的主要内容第20-23页
第二章 固体钽电解电容器介绍第23-31页
   ·固体钽电解电容器主要电参数介绍第23-25页
     ·电容量第23页
     ·损耗角正切值第23-24页
     ·漏电流第24页
     ·额定电压第24-25页
     ·等效串联电阻第25页
     ·等效串联电感第25页
   ·固体钽电解电容器工艺流程介绍第25-31页
     ·混粉及成型第25-26页
     ·烧结第26页
     ·形成第26-27页
     ·被膜第27-28页
     ·被覆石墨、银浆第28页
     ·封装第28-29页
     ·老练和老化第29-31页
第三章 Ta_2O_5阳极氧化膜制造技术的研究第31-45页
   ·实验设备、检测仪器和电参数测量条件介绍第31-32页
     ·实验设备第31页
     ·检测仪器第31-32页
     ·电参数测量条件第32页
   ·Ta_2O_5阳极氧化膜的晶化现象第32-33页
     ·晶化的机理第32页
     ·晶化对产品电性能的影响第32-33页
   ·杂质氧含量对Ta_2O_5阳极氧化膜形成的影响第33-35页
     ·实验流程第33页
     ·实验结果及分析第33-35页
     ·结论第35页
   ·不同比例柠檬酸对氧化膜的影响第35-37页
     ·实验流程第36页
     ·实验结果及分析第36页
     ·结论第36-37页
   ·磷酸浓度对氧化膜的影响第37-38页
     ·实验流程第37页
     ·实验结果及分析第37-38页
     ·结论第38页
   ·形成温度对氧化膜的影响第38-39页
     ·实验流程第38页
     ·实验结果及分析第38-39页
     ·结论第39页
   ·电流密度及恒压时间对氧化膜的影响第39-40页
   ·形成电压对氧化膜的影响第40页
   ·热处理及补形成对氧化膜的影响第40-43页
     ·实验流程第41页
     ·实验结果及分析第41-43页
     ·结论第43页
   ·二次形成对氧化膜的强化第43-45页
     ·实验流程第43页
     ·实验结果及分析第43-44页
     ·结论第44-45页
第四章 生产过程优化第45-49页
   ·成型、烧结的优化第45页
   ·形成的优化第45-46页
   ·被膜的优化第46-47页
     ·热分解温度和时间第46页
     ·被膜环境第46-47页
     ·硝酸锰的浸渍效果与热分解次数第47页
     ·硝酸锰浓度第47页
     ·中间补形成第47页
   ·封装的优化第47-48页
   ·电老化技术的优化第48-49页
第五章 结论与展望第49-51页
   ·结论第49-50页
   ·展望第50-51页
参考文献第51-53页
致谢第53-55页
作者简介第55页

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