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基于微纳加工的闪烁体表面修饰技术应用探索

摘要第1-7页
Abstract第7-9页
目录第9-11页
第一章 绪论第11-23页
   ·无机闪烁体第11-16页
     ·无机闪烁体发光原理第12-14页
     ·无机闪烁体的基本性能第14-16页
   ·闪烁体光提取与光子晶体第16-21页
     ·辐射探测对闪烁体光提取的需求第16-19页
     ·光子晶体第19页
     ·光子晶体应用于闪烁体光提取第19-21页
   ·同步辐射硬 X 射线成像第21-22页
   ·本论文研究内容及意义第22-23页
第二章 基于微纳加工技术光子晶体的制备第23-32页
   ·微纳加工技术概述第23-24页
     ·自组装技术第23页
     ·阳极氧化法第23页
     ·电子束光刻技术第23-24页
     ·X 射线干涉光刻技术第24页
   ·实验材料第24-25页
     ·闪烁体第24-25页
     ·光子晶体第25页
   ·参数选取第25-28页
     ·理论计算原理第25-27页
     ·模型构建第27-28页
     ·设计结果第28页
   ·实验方法第28-31页
     ·聚苯乙烯小球周期结构的制备第28-29页
     ·阳极氧化铝周期结构的制备第29-30页
     ·氮化硅纳米周期阵列的制备第30-31页
   ·制备结果第31-32页
第三章 光子晶体对同步辐射硬 X 射线成像探测器性能的影响研究第32-47页
   ·实验装置第32-33页
   ·实验样品第33页
   ·实验方案第33-34页
   ·实验结果与讨论第34-45页
     ·光提取实验结果与讨论第34-36页
     ·成像实验结果与讨论第36-38页
     ·探测效率实验结果与讨论第38-45页
       ·改变光子晶体的构型第41-43页
       ·改变光子晶体的深度第43-44页
       ·改变光子晶体的位置第44-45页
   ·实验结论第45-47页
第四章 总结与展望第47-49页
参考文献第49-53页
硕士期间发表文章第53-54页
致谢第54页

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