Ni/Ti中子多层膜结构与界面的控制
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-20页 |
| ·概述 | 第9-10页 |
| ·中子多层膜光学元件 | 第10-12页 |
| ·中子超镜的概述 | 第12-19页 |
| ·中子超镜的基本原理 | 第12-13页 |
| ·中子超镜材料的选择 | 第13-15页 |
| ·中子超镜设计方法的发展 | 第15-16页 |
| ·中子多层膜的制备工艺 | 第16-17页 |
| ·中子超镜国内外现状 | 第17-19页 |
| ·国外现状 | 第17-18页 |
| ·国内现状 | 第18-19页 |
| ·本课题的研究内容 | 第19-20页 |
| 第二章 实验原理及方法 | 第20-34页 |
| ·实验原理 | 第20-25页 |
| ·离子束溅射沉积 | 第20页 |
| ·磁控溅射沉积 | 第20-22页 |
| ·X射线衍射仪(XRD) | 第22-23页 |
| ·透射电子显微镜(TEM) | 第23页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第23-24页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第24页 |
| ·俄歇电子能谱(AES) | 第24页 |
| ·纳米压痕技术 | 第24-25页 |
| ·实验设备简介 | 第25-27页 |
| ·离子束辅助沉积设备 | 第25-26页 |
| ·超高真空磁控溅射仪 | 第26-27页 |
| ·实验方法 | 第27-34页 |
| ·Ni/Ti多层膜层厚度的选择 | 第27-29页 |
| ·Ni/Ti多层膜的制备 | 第29-30页 |
| ·Ni/Ti多层膜的分析 | 第30-34页 |
| 第三章 离子束溅射沉积Ni/Ti多层膜的工艺研究 | 第34-48页 |
| ·沉积速率的测定 | 第34-37页 |
| ·溅射功率对Ni/Ti多层膜的影响 | 第37-41页 |
| ·基底温度对Ni/Ti多层膜的影响 | 第41-43页 |
| ·溅射气压对Ni/I'i多层膜的影响 | 第43-45页 |
| ·离子束辅助沉积对Ni/Ti多层膜的影响 | 第45-46页 |
| ·小结 | 第46-48页 |
| 第四章 Ni/Ti多层膜界面的优化 | 第48-62页 |
| ·引言 | 第48-49页 |
| ·离子抛光 | 第49-53页 |
| ·离子轰击能量对多层膜界面粗糙度的影响 | 第50-52页 |
| ·抛光时间对多层膜界面粗糙度的影响 | 第52-53页 |
| ·反应溅射 | 第53-60页 |
| ·Ni层中掺入N、O元素 | 第53-57页 |
| ·Ti层中掺入H元素 | 第57-60页 |
| ·小结 | 第60-62页 |
| 第五章 Ni/Ti多层膜力学性能的测量与分析 | 第62-65页 |
| 第六章 磁控溅射制备Ni/Ti多层膜 | 第65-68页 |
| 第七章 全文总结 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-74页 |
| 附录 | 第74页 |
