Ti-Si-N纳米复合膜制备与性能
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 1 绪论 | 第10-19页 |
| ·硬质涂层 | 第10-11页 |
| ·纳米复合膜 | 第11-12页 |
| ·TiN 薄膜 | 第12-13页 |
| ·Ti-Si-N 纳米复合膜 | 第13-14页 |
| ·薄膜的制备 | 第14-17页 |
| ·化学气相沉积技术 | 第14-15页 |
| ·物理气相沉积技术 | 第15-17页 |
| ·课题研究的内容和意义 | 第17-19页 |
| 2 实验材料与方法 | 第19-26页 |
| ·Ti-Si-N 纳米复合膜的制备 | 第19-22页 |
| ·三靶磁控共溅射镀膜系统 | 第19-20页 |
| ·基体的预处理 | 第20-21页 |
| ·Ti-Si-N 制备工艺 | 第21-22页 |
| ·薄膜的表征方法 | 第22-26页 |
| ·原子力显微镜 (AFM) | 第22-23页 |
| ·X 射线衍射(XRD) | 第23-24页 |
| ·材料表面性能测试 | 第24页 |
| ·场发射扫描电子显微镜（FESEM） | 第24-26页 |
| 3 实验结果与分析 | 第26-51页 |
| ·Si 含量对 Ti-Si-N 薄膜的影响 | 第26-37页 |
| ·复合膜的 XRD 谱 | 第26-28页 |
| ·复合膜的微观结构 | 第28-33页 |
| ·复合膜的膜/基结合力 | 第33-35页 |
| ·复合膜的摩擦系数 | 第35-37页 |
| ·基体负偏压对 Ti-Si-N 薄膜的影响 | 第37-45页 |
| ·复合膜的 XRD 谱 | 第38页 |
| ·复合膜的微观结构 | 第38-41页 |
| ·复合膜的膜/基结合力 | 第41-42页 |
| ·复合膜的摩擦系数 | 第42-45页 |
| ·氮气分压对 Ti-Si-N 薄膜的影响 | 第45-51页 |
| ·复合膜的 XRD 谱 | 第45-46页 |
| ·复合膜的微观结构 | 第46-49页 |
| ·复合膜的膜/基结合力 | 第49-51页 |
| 4 结论 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-55页 |
| 在学期间研究成果 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
