| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-14页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·光子晶体国内外研究现状 | 第11-13页 |
| ·本论文的内容及意义 | 第13-14页 |
| 第二章 光子晶体的基础理论 | 第14-38页 |
| ·光子晶体的概念及光学特性 | 第14-21页 |
| ·光子晶体的概念 | 第14-15页 |
| ·光子晶体的结构特点 | 第15-16页 |
| ·光子晶体的光学特性 | 第16-21页 |
| ·光子晶体的制备 | 第21-25页 |
| ·直写方法 | 第21-22页 |
| ·微加工的方法 | 第22页 |
| ·多光子聚合方法 | 第22页 |
| ·胶体晶体自组织 | 第22-24页 |
| ·激光技术方法 | 第24-25页 |
| ·光子晶体透射谱和能带结构的计算方法 | 第25-33页 |
| ·时域有限差分法 | 第25页 |
| ·传输矩阵法 | 第25-32页 |
| ·平面波展开法 | 第32页 |
| ·多重散射法 | 第32-33页 |
| ·光子晶体的应用 | 第33-38页 |
| ·利用光子禁带特性制造各种光学器件 | 第34-35页 |
| ·利用光子局域态制造各种光学器件 | 第35-36页 |
| ·其它方面的应用 | 第36-38页 |
| 第三章 掺杂缺陷的一维异质双周期光子晶体缺陷模的特性 | 第38-44页 |
| ·引言 | 第38页 |
| ·结构模型 | 第38-39页 |
| ·数值计算及分析 | 第39-43页 |
| ·缺陷模随缺陷层位置不同的变化规律 | 第39-41页 |
| ·缺陷模随缺陷层光学厚度的变化规律 | 第41页 |
| ·缺陷模随缺陷层折射率的变化规律 | 第41-42页 |
| ·掺杂多层缺陷层缺陷模的变化规律： | 第42-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章 吸收条件下掺杂缺陷的一维异质双周期光子晶体在应力作用下缺陷模的特性 | 第44-51页 |
| ·引言 | 第44页 |
| ·结构模型及理论基础 | 第44-46页 |
| ·数值模拟结果及分析 | 第46-50页 |
| ·吸收条件下应变对缺陷模的影响 | 第47-48页 |
| ·介观压光系数随消光系数的变化规律 | 第48-49页 |
| ·介观压光系数随有效弹光系数的变化规律 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第五章 掺杂缺陷的一维异质双周期光子晶体在外磁场作用下缺陷模的特性 | 第51-57页 |
| ·引言 | 第51页 |
| ·结构模型和理论基础 | 第51-53页 |
| ·实验仿真及分析 | 第53-56页 |
| ·不同磁场调制下磁光层介电常数随波长的变化规律 | 第53-54页 |
| ·磁场的改变对磁光层折射率的影响 | 第54-55页 |
| ·外磁场对缺陷模透射率的调控规律 | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 结论 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-63页 |
| 附录(攻读学位期间所发表的学术论文目录) | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
