| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-16页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·SmCo_5及其底层材料 | 第10-12页 |
| ·图案化磁记录介质及二维有序阵列模板 | 第12-14页 |
| ·本文研究内容及结构 | 第14-16页 |
| 2 SmCo_5薄膜和Si基二维有序阵列模板的制备及测试分析 | 第16-34页 |
| ·磁控溅射及SmCo_5薄膜样品制备 | 第16-20页 |
| ·Si基二维规则有序阵列模板的制备 | 第20-29页 |
| ·样品的微观分析 | 第29-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 3 TiW籽晶层对SmCo_5/Cu薄膜微结构与磁性能的影响 | 第34-45页 |
| ·TiW籽晶层对Cu底层微结构与表面形貌的影响 | 第34-42页 |
| ·TiW籽晶层对SmCo_5/Cu薄膜磁性能的影响 | 第42-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 4 Si基二维规则有序阵列模板制备工艺研究 | 第45-63页 |
| ·传统光刻与结果分析 | 第45-50页 |
| ·ICP刻蚀与结果分析 | 第50-55页 |
| ·优秀模板各步骤结果图形展示 | 第55-58页 |
| ·经电子束曝光，ICP刻蚀得到的模板 | 第58-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 5 结论 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
| 附录1 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第69-70页 |
| 附录2 攻读硕士学位期间申请的专利 | 第70页 |
