| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-20页 |
| ·选题背景 | 第8-11页 |
| ·选题目的和意义 | 第11-12页 |
| ·国内外研究现状 | 第12-17页 |
| ·微弧氧化的概念 | 第12页 |
| ·微弧氧化的发展及其研究现状 | 第12-14页 |
| ·微弧氧化特点 | 第14-15页 |
| ·微弧氧化的影响因素 | 第15-17页 |
| ·研究内容及预期达到的目标 | 第17-19页 |
| ·本研究采用的技术路线 | 第19-20页 |
| 第二章 试验方法及过程 | 第20-26页 |
| ·基体材料 | 第20页 |
| ·试验设备 | 第20-21页 |
| ·配制电解液所需试剂 | 第21-22页 |
| ·试验方案 | 第22-24页 |
| ·微弧氧化膜的表征 | 第24-26页 |
| ·膜层厚度测量 | 第24-25页 |
| ·陶瓷膜微观形貌的测试 | 第25页 |
| ·陶瓷膜 XRD 分析 | 第25页 |
| ·陶瓷膜耐磨性测量 | 第25-26页 |
| 第三章 NaOH-mSiO_2·nH_2O 体系下膜层制备及表征 | 第26-39页 |
| ·前言 | 第26页 |
| ·膜层厚度 | 第26-28页 |
| ·膜层表面形貌 | 第28-33页 |
| ·膜层相组成 | 第33-34页 |
| ·膜层截面形貌 | 第34-35页 |
| ·膜层耐磨性 | 第35-36页 |
| ·NaOH-mSiO_2·nH_2O 体系下基础电解液的确定 | 第36页 |
| ·微弧氧化过程中反应现象 | 第36-39页 |
| 第四章 基础电解液中电参数对微弧氧化膜层特性的影响 | 第39-50页 |
| ·正向电压对微弧氧化膜特性的影响 | 第39-42页 |
| ·膜层厚度 | 第39页 |
| ·膜层表面形貌 | 第39-40页 |
| ·膜层相组成 | 第40-41页 |
| ·微弧氧化过程中电流变化 | 第41-42页 |
| ·负向电压对微弧氧化膜特性的影响 | 第42-46页 |
| ·膜层厚度 | 第42-43页 |
| ·膜层表面形貌 | 第43-45页 |
| ·膜层相组成 | 第45-46页 |
| ·电源频率对微弧氧化膜特性的影响 | 第46-49页 |
| ·膜层厚度 | 第46-47页 |
| ·膜层表面形貌 | 第47-48页 |
| ·膜层相组成 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第五章 结论 | 第50-52页 |
| 参考文献 | 第52-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
| 个人简介 | 第57页 |
