| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-31页 |
| ·前言 | 第13-14页 |
| ·CO_2的光电催化还原反应研究 | 第14-24页 |
| ·CO_2的物理化学性质 | 第14-15页 |
| ·CO_2的光电催化还原反应机理 | 第15-18页 |
| ·CO_2的光电催化还原反应研究进展 | 第18-24页 |
| ·化学修饰电极 | 第24-28页 |
| ·化学修饰电极电催化的类型和特征 | 第24-25页 |
| ·化学修饰电极的制备方法 | 第25-26页 |
| ·化学修饰电极的表征方法 | 第26-28页 |
| ·论文研究的意义、内容及创新点 | 第28-31页 |
| ·论文研究的意义 | 第28-29页 |
| ·论文研究的内容 | 第29-30页 |
| ·论文研究的创新点 | 第30-31页 |
| 第二章 化学修饰CuInS_2薄膜电极的制备及表征 | 第31-47页 |
| ·实验试剂及实验仪器 | 第31-34页 |
| ·实验试剂 | 第31-32页 |
| ·实验仪器 | 第32-34页 |
| ·实验装置 | 第34-35页 |
| ·CuInS_2薄膜材料的制备 | 第35-36页 |
| ·化学修饰CuInS_2薄膜电极的制备 | 第36页 |
| ·化学修饰CuInS_2薄膜电极的表征 | 第36-37页 |
| ·循环伏安法表征 | 第36-37页 |
| ·X光电子能谱(XPS)表征 | 第37页 |
| ·结果与讨论 | 第37-47页 |
| ·未修饰与化学修饰CuInS_2薄膜电极对CO_2的光电催化还原反应的影响 | 第37-38页 |
| ·化学修饰CuInS_2薄膜电极表面覆盖率的测定 | 第38-40页 |
| ·不同浓度的吡啶-2-甲酰氯修饰的CuInS_2薄膜电极对CO_2光电还原反应的影响 | 第40-42页 |
| ·不同pH值对CO_2光电还原反应的影响 | 第42-44页 |
| ·不同的循环伏安扫描圈数对CO_2光电还原反应的影响 | 第44页 |
| ·X光电子能谱(XPS)表征 | 第44-47页 |
| 第三章 化学修饰CuInS_2薄膜电极的光电催化性能研究 | 第47-57页 |
| ·实验试剂及实验仪器 | 第47页 |
| ·实验试剂 | 第47页 |
| ·实验仪器 | 第47页 |
| ·实验装置 | 第47页 |
| ·化学修饰CuInS_2薄膜电极的光电催化性能研究 | 第47-50页 |
| ·CO_2的光电催化还原反应 | 第47-48页 |
| ·CO_2的光电催化还原反应产物的测定 | 第48-49页 |
| ·不同pH值对CO_2光电还原反应产物产量的影响 | 第49页 |
| ·不同反应时间对CO_2光电还原反应产物产量的影响 | 第49页 |
| ·不同吡啶-2-甲酰氯浓度修饰CuInS_2薄膜电极对CO_2光电还原反应产物产量的影响 | 第49-50页 |
| ·不同偏压对CO_2光电还原反应产物产量的影响 | 第50页 |
| ·结果与讨论 | 第50-57页 |
| ·不同pH值对CO_2光电还原反应产物产量的影响 | 第50-52页 |
| ·不同反应时间对CO_2光电还原反应产物产量的影响 | 第52页 |
| ·不同浓度的吡啶-2-甲酰氯修饰CuInS_2薄膜电极对CO_2光电还原反应产物产量的影响 | 第52-54页 |
| ·不同偏压对CO_2光电还原反应产物产量的影响 | 第54-55页 |
| ·电极表面覆盖度与产物甲醇的关系 | 第55-57页 |
| 第四章 结论 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-63页 |
| 致谢 | 第63-65页 |
| 研究成果及发表的学术论文 | 第65-67页 |
| 作者和导师简介 | 第67-68页 |
| 附件 | 第68-69页 |
