光通信波段亚波长光栅偏振器的设计与分析
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| ·研究的背景和意义 | 第10-13页 |
| ·新型亚波长光栅的应用 | 第13-19页 |
| ·抗反射表面 | 第13-14页 |
| ·偏振器件 | 第14-16页 |
| ·耦合器 | 第16-18页 |
| ·窄带滤波器 | 第18-19页 |
| ·位相板 | 第19页 |
| ·新型亚波长光栅的分类 | 第19-21页 |
| ·论文内容安排 | 第21页 |
| ·本章小结 | 第21-22页 |
| 第二章 新型亚波长光栅设计理论分析 | 第22-35页 |
| ·亚波长光栅的严格耦合波分析法 | 第22-29页 |
| ·麦克思维方程及波动方程 | 第23-25页 |
| ·一维亚波长光栅的严格耦合波理论分析 | 第25-26页 |
| ·TM偏振 | 第26-27页 |
| ·TE偏振 | 第27-29页 |
| ·亚波长光栅的等效媒质理论分析 | 第29-32页 |
| ·一维亚波长光栅的偏振特性 | 第31-32页 |
| ·时域有限差分法 | 第32-33页 |
| ·一维亚波长光栅偏振器周期的确定 | 第33-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第三章 亚波长光栅偏振器的设计及结果分析 | 第35-46页 |
| ·仿真软件的应用 | 第35页 |
| ·仿真原理及其参数设置 | 第35-41页 |
| ·亚波长光栅偏振器的设计与分析 | 第41-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第四章 新型亚波长偏振光栅的制备与分析 | 第46-56页 |
| ·纳米加工技术概述 | 第46页 |
| ·新型亚波长光栅的工艺流程 | 第46-47页 |
| ·亚波长光栅的加工工艺简介 | 第47-51页 |
| ·PECVD技术 | 第47-49页 |
| ·电子束曝光技术(EBL) | 第49-50页 |
| ·ICP干法刻蚀技术 | 第50-51页 |
| ·矩形亚波长光栅偏振器的制备与性能分析 | 第51-55页 |
| ·亚波长光栅偏振器制备的具体操作流程 | 第51-53页 |
| ·实验分析 | 第53-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第五章 等离子体增强化学气相沉积法镀膜的工艺研究 | 第56-67页 |
| ·PECVD的原理及特征 | 第56-57页 |
| ·PECVD技术中等离子体的性质 | 第57-58页 |
| ·PECVD的特点 | 第58-60页 |
| ·PECVD的应用 | 第60页 |
| ·PECVD工艺 | 第60-64页 |
| ·PECVD操作规程准备工作 | 第61页 |
| ·预抽真空系统步骤 | 第61-62页 |
| ·装取样品步骤 | 第62页 |
| ·沉积步骤 | 第62-63页 |
| ·停机步骤 | 第63-64页 |
| ·腔室清洗 | 第64页 |
| ·常见故障及处理方法 | 第64-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-70页 |
| 致谢 | 第70-72页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文目录 | 第72页 |
