| 中文摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-30页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·永磁材料的发展历程 | 第11-17页 |
| ·永磁材料概述 | 第11-12页 |
| ·永磁材料的基本磁学参量 | 第12-15页 |
| ·永磁材料的种类及特点 | 第15-16页 |
| ·永磁材料的发展 | 第16-17页 |
| ·块状 NdFeB 永磁材料简介 | 第17-20页 |
| ·NdFeB 化合物的晶体结构 | 第17-18页 |
| ·块状 NdFeB 的分类 | 第18-19页 |
| ·块状 NdFeB 的应用 | 第19-20页 |
| ·NdFeB 永磁薄膜简介 | 第20-27页 |
| ·NdFeB 永磁薄膜的制备方法 | 第20-24页 |
| ·NdFeB 永磁薄膜的研究进展 | 第24-27页 |
| ·NdFeB 永磁薄膜的应用 | 第27页 |
| ·实验的目的和内容 | 第27-30页 |
| ·实验的目的 | 第27-28页 |
| ·实验的内容 | 第28-30页 |
| 第二章 薄膜的制备及性能表征 | 第30-40页 |
| ·实验材料 | 第30页 |
| ·实验设备 | 第30-32页 |
| ·FJL560Ⅱ型超高真空磁控与离子束联合溅射设备 | 第30-32页 |
| ·薄膜的晶化热处理设备 | 第32页 |
| ·薄膜的分析测试技术 | 第32-37页 |
| ·XRD 对薄膜组织结构的分析 | 第32-33页 |
| ·SEM 对薄膜表面形貌的分析 | 第33-34页 |
| ·AFM 对薄膜表面形貌及粒度分布的分析 | 第34-35页 |
| ·VSM 对薄膜磁性能的分析 | 第35-37页 |
| ·实验过程 | 第37-40页 |
| ·基片的清洗 | 第37-38页 |
| ·实验的工艺流程 | 第38-40页 |
| 第三章 NdFeB层厚度对 Ta/Nd/NdFeB/Nd/Ta多层薄膜结构和磁性能的影响 | 第40-52页 |
| ·引言 | 第40页 |
| ·薄膜的形貌 | 第40-42页 |
| ·650℃晶化处理 NdFeB 层厚度对 Ta/Nd/NdFeB/Nd/Ta 多层薄膜结构和磁性能的影响 | 第42-46页 |
| ·650℃晶化处理 NdFeB 层厚度对 Ta/Nd/NdFeB/Nd/Ta 多层薄膜结构的影响 | 第42-43页 |
| ·650℃晶化处理时 NdFeB 层厚度对 Ta/Nd/NdFeB/Nd/Ta 多层薄膜磁性能的影响 | 第43-46页 |
| ·750℃晶化处理 NdFeB 层厚度对 Ta/Nd/NdFeB/Nd/Ta 多层薄膜结构和磁性能的影响 | 第46-49页 |
| ·750℃晶化处理 NdFeB 厚度对 Ta/Nd/NdFeB/Nd/Ta 多层薄膜结构的影响 | 第46-47页 |
| ·750℃晶化处理 NdFeB 厚度对 Ta/Nd/NdFeB/Nd/Ta 多层薄膜磁性能的影响 | 第47-49页 |
| ·结论 | 第49-52页 |
| 第四章 Nd层厚度对 Ta/Nd/NdFeB/Nd/Ta多层薄膜结构和磁性能的影响 | 第52-60页 |
| ·引言 | 第52页 |
| ·650℃晶化处理 Nd 层厚度对 Ta/Nd/NdFeB/Nd/Ta 多层薄膜结构和磁性能的影响 | 第52-55页 |
| ·650℃晶化处理 Nd 层厚度对 Ta/Nd/NdFeB/Nd/Ta 多层薄膜结构的影响 | 第52-53页 |
| ·650℃晶化处理 Nd 层厚度对 Ta/Nd/NdFeB/Nd/Ta 多层薄膜磁性能的影响 | 第53-55页 |
| ·750℃晶化处理 Nd 层厚度对 Ta/Nd/NdFeB/Nd/Ta 多层薄膜结构和磁性能的影响46 | 第55-58页 |
| ·750℃晶化处理 Nd 层厚度对 Ta/Nd/NdFeB/Nd/Ta 多层薄膜结构的影响 | 第55-56页 |
| ·750℃晶化处理 Nd 层厚度对 Ta/Nd/NdFeB/Nd/Ta 多层薄膜磁性能的影响 | 第56-58页 |
| ·小结 | 第58-60页 |
| 第五章 Ta/Nd/NdFeB/Nd/Ta多层薄膜矫顽力的热稳定性研究 | 第60-62页 |
| 第六章 结论 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-70页 |
| 致谢 | 第70-72页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第72-73页 |
