| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 致谢 | 第8-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-34页 |
| ·引言 | 第13-14页 |
| ·氮化硅 | 第14-25页 |
| ·氮化硅材料的结构 | 第14-16页 |
| ·氮化硅材料的性能 | 第16-18页 |
| ·氮化硅材料的应用 | 第18-21页 |
| ·氮化硅粉体的制备方法 | 第21-25页 |
| ·Sialon 陶瓷 | 第25-33页 |
| ·Sialon 陶瓷的分类及性能 | 第25-29页 |
| ·Sialon 陶瓷的应用 | 第29-30页 |
| ·Sialon 陶瓷在冶金领域上的应用 | 第29-30页 |
| ·Sialon 陶瓷在机械工业中的应用 | 第30页 |
| ·Sialon 陶瓷的其他用途 | 第30页 |
| ·Sialon 陶瓷粉体合成方法 | 第30-33页 |
| ·本课题的研究目的、内容及意义 | 第33-34页 |
| 第二章 实验部分 | 第34-38页 |
| ·实验用原材料 | 第34-35页 |
| ·实验原料 | 第34-35页 |
| ·实验仪器 | 第35页 |
| ·实验方案 | 第35-36页 |
| ·Si_3N_4粉体的合成 | 第35-36页 |
| ·β-Sialon 粉体的合成 | 第36页 |
| ·材料性能测试方法 | 第36-38页 |
| ·X 射线( XRD) 分析 | 第36-37页 |
| ·扫描电镜显微（SEM）分析 | 第37页 |
| ·激光粒度检测分析 | 第37-38页 |
| 第三章 实验结果及讨论 | 第38-57页 |
| ·Si_3N_4合成实验结果及分析 | 第38-48页 |
| ·SiO_2-C-N_2系统化学反应分析[60-62] | 第38-40页 |
| ·反应自由焓的计算 | 第38-39页 |
| ·碳热还原合成 Si_3N_4反应分析 | 第39页 |
| ·碳热还原生成 Si_2N_2O 反应分析 | 第39页 |
| ·碳热还原生成 SiC 反应分析 | 第39-40页 |
| ·实验结果及分析 | 第40-48页 |
| ·反应温度对制备氮化硅粉体的影响 | 第40-42页 |
| ·反应时间对制备氮化硅粉体的影响 | 第42-44页 |
| ·原料的碳硅比对制备氮化硅粉体的影响 | 第44-46页 |
| ·氮气流量对制备氮化硅粉体的影响 | 第46-47页 |
| ·氮化硅纳米线合成及分析 | 第47-48页 |
| ·β-Sialon 粉体合成实验结果及分析 | 第48-57页 |
| ·溶胶凝胶-碳热还原法合成β-Sialon 粉体的机理分析 | 第48-49页 |
| ·β-Sialon 分子式的确定 | 第49-50页 |
| ·实验结果及分析 | 第50-57页 |
| ·反应温度对合成β-Sialon 粉体的影响 | 第51-52页 |
| ·保温时间对合成β-Sialon 粉体的影响 | 第52-53页 |
| ·添加剂含量对合成β-Sialon 粉体的影响 | 第53-54页 |
| ·β-Sialon 粉体的显微结构及粒度分析 | 第54-57页 |
| 第四章 全文结论 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-64页 |
| 硕士期间发表论文及专利 | 第64-65页 |