| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-19页 |
| ·光子晶体简介 | 第7-9页 |
| ·光子晶体性质及应用 | 第9-13页 |
| ·光子晶体的制备方法 | 第13-18页 |
| ·本论文的主要研究内容 | 第18-19页 |
| 第二章 光子晶体的理论分析方法 | 第19-32页 |
| ·电磁波在光子晶体传播的主方程 | 第19-21页 |
| ·平面波展开法 | 第21-22页 |
| ·时域有限差分法 | 第22-32页 |
| 第三章 硅基二维光子晶体光电化学腐蚀工艺优化 | 第32-46页 |
| ·诱导坑制备工艺 | 第32-34页 |
| ·二维空气柱光子晶体的光电化学腐蚀 | 第34-37页 |
| ·诱导坑对二维光子晶体形貌的影响 | 第37-39页 |
| ·工作电压对二维通道结构生长的影响 | 第39-41页 |
| ·腐蚀溶液配比对二维通道结构生长的影响 | 第41-46页 |
| 第四章 二维空气柱光子晶体带隙时域仿真 | 第46-56页 |
| ·二维光子晶体带隙时域仿真过程 | 第46-49页 |
| ·晶格周期对二维光子晶体带隙的影响 | 第49-53页 |
| ·晶格类型对二维光子晶体带隙的影响 | 第53-54页 |
| ·空气圆柱半径对光子晶体带隙的影响 | 第54-56页 |
| 结论 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-59页 |