大阵列激光相干合成设计技术研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-20页 |
| ·研究背景及意义 | 第9页 |
| ·国内外研究现状 | 第9-11页 |
| ·主要被动锁相技术 | 第11-14页 |
| ·自组织相干法 | 第11-12页 |
| ·自傅立叶外腔耦合法 | 第12-13页 |
| ·自成像共振腔 | 第13-14页 |
| ·主要主动锁相技术 | 第14-19页 |
| ·外差探测主振荡功率放大法 | 第14-16页 |
| ·随机并行梯度下降主振荡功率放大法 | 第16-17页 |
| ·多抖动主振荡功率放大法 | 第17-18页 |
| ·全固态激光器相干合成到百万瓦级 | 第18-19页 |
| ·论文目标内容 | 第19-20页 |
| 第二章 相干合成数值模拟的理论基础 | 第20-29页 |
| ·引言 | 第20页 |
| ·光束传播理论 | 第20-25页 |
| ·基模高斯光束的传播 | 第20-22页 |
| ·超高斯光束的传播 | 第22-24页 |
| ·夫琅禾费衍射系统 | 第24-25页 |
| ·光束的完全相干叠加 | 第25-28页 |
| ·透镜系统的相干合成 | 第26-27页 |
| ·非透镜系统的相干合成 | 第27页 |
| ·相位调制法聚焦 | 第27-28页 |
| ·相干合成效率评价 | 第28-29页 |
| 第三章 基模高斯光的相干合成数值模拟 | 第29-42页 |
| ·引言 | 第29-30页 |
| ·透镜系统的相干合成模拟 | 第30-34页 |
| ·一维线性排列系统 | 第30页 |
| ·二维阵列排列系统 | 第30-31页 |
| ·阵列排布对合成效率的影响 | 第31-32页 |
| ·阵列大小对合成效率的影响 | 第32-33页 |
| ·占空因子对合成效率的影响 | 第33-34页 |
| ·无透镜系统的相干合成模拟 | 第34-39页 |
| ·阵列排布对合成效率的影响 | 第34-35页 |
| ·阵列大小对合成效率的影响 | 第35-36页 |
| ·占空因子对合成效率的影响 | 第36-38页 |
| ·传播距离对合成效率的影响 | 第38-39页 |
| ·相位调制法聚焦 | 第39-42页 |
| ·相位调制法聚焦的效果 | 第39-40页 |
| ·传播距离对合成效率的影响 | 第40-42页 |
| 第四章 超高斯光的相干合成数值模拟 | 第42-51页 |
| ·引言 | 第42页 |
| ·无透镜系统的圆形超高斯光相干合成模拟 | 第42-47页 |
| ·阵列排布对合成效率的影响 | 第42-43页 |
| ·阵列大小对合成效率的影响 | 第43-45页 |
| ·占空因子对合成效率的影响 | 第45-46页 |
| ·传播距离对合成效率的影响 | 第46-47页 |
| ·无透镜系统的正方形超高斯光相干合成模拟 | 第47-51页 |
| ·阵列排布对合成效率的影响 | 第47-48页 |
| ·阵列大小对合成效率的影响 | 第48-49页 |
| ·占空因子对合成效率的影响 | 第49-50页 |
| ·传播距离对合成效率的影响 | 第50-51页 |
| 第五章 总结 | 第51-55页 |
| ·透镜系统的影响因子分析 | 第51-52页 |
| ·无透镜系统的影响因子分析 | 第52-53页 |
| ·相位调制聚焦的意义 | 第53页 |
| ·数值模拟结果总结 | 第53-54页 |
| ·论文主要创新工作 | 第54页 |
| ·后续工作展望 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 硕士期间发表论文情况 | 第60页 |
