摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
第1章 绪论 | 第9-14页 |
·课题背景 | 第9-10页 |
·法拉第反常色散滤波器的滤波机制 | 第10页 |
·超窄带光学滤波器的发展状况 | 第10-12页 |
·本论文研究的内容 | 第12-14页 |
第2章 FADOF 的理论模型 | 第14-29页 |
·FADOF 系统理论分析 | 第14-16页 |
·理论分析 | 第16-18页 |
·磁场对原子能级及谱线的影响 | 第18-26页 |
·超精细结构的FADOF 理论模型 | 第26-27页 |
·本章小结 | 第27-29页 |
第3章 铯原子852nmFADOF 的数值计算 | 第29-45页 |
·引言 | 第29页 |
·Cs 852nm FADOF 的数值计算 | 第29-43页 |
·超精细Zeeman 子能级的计算 | 第30-31页 |
·超精细结构FADOF 的理论计算 | 第31-33页 |
·数值计算结果 | 第33-39页 |
·FADOF 稳定性研究 | 第39-40页 |
·FADOF 的主要指标与工作条件的关系 | 第40-43页 |
·本章小结 | 第43-45页 |
第4章 铯原子852nm FADOF 实验研究 | 第45-50页 |
·引言 | 第45页 |
·实验准备 | 第45-46页 |
·样品池的加工 | 第45页 |
·磁场强度和均匀度测量 | 第45-46页 |
·实验安排 | 第46-49页 |
·所用实验仪器介绍 | 第46页 |
·实验过程 | 第46-47页 |
·Faraday 反常色散谱的测量 | 第47-49页 |
·本章小结 | 第49-50页 |
第5章 Cs 852nm FADOF 器件设计制作 | 第50-55页 |
·FADOF 器件设计 | 第50-53页 |
·温度控制模块设计 | 第50-51页 |
·磁场的设计 | 第51页 |
·器件的总体设计 | 第51-53页 |
·器件性能测试 | 第53-54页 |
·本章小结 | 第54-55页 |
结论 | 第55-56页 |
参考文献 | 第56-61页 |
攻读学位期间发表的学术论文 | 第61-63页 |
致谢 | 第63页 |