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Cs 852nm法拉第反常色散光学滤波器研究

摘要第1-5页
Abstract第5-9页
第1章 绪论第9-14页
   ·课题背景第9-10页
   ·法拉第反常色散滤波器的滤波机制第10页
   ·超窄带光学滤波器的发展状况第10-12页
   ·本论文研究的内容第12-14页
第2章 FADOF 的理论模型第14-29页
   ·FADOF 系统理论分析第14-16页
   ·理论分析第16-18页
   ·磁场对原子能级及谱线的影响第18-26页
   ·超精细结构的FADOF 理论模型第26-27页
   ·本章小结第27-29页
第3章 铯原子852nmFADOF 的数值计算第29-45页
   ·引言第29页
   ·Cs 852nm FADOF 的数值计算第29-43页
     ·超精细Zeeman 子能级的计算第30-31页
     ·超精细结构FADOF 的理论计算第31-33页
     ·数值计算结果第33-39页
     ·FADOF 稳定性研究第39-40页
     ·FADOF 的主要指标与工作条件的关系第40-43页
   ·本章小结第43-45页
第4章 铯原子852nm FADOF 实验研究第45-50页
   ·引言第45页
   ·实验准备第45-46页
     ·样品池的加工第45页
     ·磁场强度和均匀度测量第45-46页
   ·实验安排第46-49页
     ·所用实验仪器介绍第46页
     ·实验过程第46-47页
     ·Faraday 反常色散谱的测量第47-49页
   ·本章小结第49-50页
第5章 Cs 852nm FADOF 器件设计制作第50-55页
   ·FADOF 器件设计第50-53页
     ·温度控制模块设计第50-51页
     ·磁场的设计第51页
     ·器件的总体设计第51-53页
   ·器件性能测试第53-54页
   ·本章小结第54-55页
结论第55-56页
参考文献第56-61页
攻读学位期间发表的学术论文第61-63页
致谢第63页

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