基于微光机电系统的微光学自适应微镜的研究
| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-6页 |
| 第1章 绪论 | 第6-15页 |
| ·课题背景 | 第6-7页 |
| ·自适应变形镜研究现状 | 第7-13页 |
| ·传统自适应光学系统 | 第7页 |
| ·微光学自适应系统 | 第7-8页 |
| ·变形镜 | 第8-11页 |
| ·驱动器 | 第11-13页 |
| ·本课题研究内容 | 第13-14页 |
| ·课题创新点 | 第14-15页 |
| 第2章 微光学自适应微镜的设计 | 第15-23页 |
| ·工作原理 | 第15页 |
| ·理论依据 | 第15-16页 |
| ·设计方案 | 第16-17页 |
| ·有限元分析 | 第17-23页 |
| 第3章 半导体微加工技术 | 第23-36页 |
| ·图形技术 | 第23-25页 |
| ·薄膜技术 | 第25-29页 |
| ·氧化 | 第26-27页 |
| ·真空蒸发 | 第27页 |
| ·溅射 | 第27页 |
| ·化学气相沉积 | 第27-28页 |
| ·扩散与离子注入 | 第28-29页 |
| ·刻蚀技术 | 第29-36页 |
| ·湿法刻蚀 | 第31-33页 |
| ·干法刻蚀 | 第33-36页 |
| 第4章 微光学自适应微镜的制作工艺 | 第36-59页 |
| ·工艺设计 | 第36-38页 |
| ·工艺实现 | 第38-57页 |
| ·硅片尺寸测量 | 第38-39页 |
| ·热氧化 | 第39-40页 |
| ·掩模版 | 第40-43页 |
| ·光刻 | 第43-51页 |
| ·HF酸刻蚀 | 第51-52页 |
| ·KOH刻蚀 | 第52-56页 |
| ·蒸镀铝膜 | 第56-57页 |
| ·实验技术条件 | 第57-59页 |
| 第5章 微镜性能测试与分析 | 第59-73页 |
| ·变形反射镜的主要性能 | 第59-62页 |
| ·校正单元数 | 第59页 |
| ·最大变形量、灵敏度和滞后 | 第59-60页 |
| ·表面面形精度及其稳定性 | 第60页 |
| ·面形响应函数和交连值 | 第60-62页 |
| ·频率响应特性 | 第62页 |
| ·静态性能 | 第62-63页 |
| ·动态性能测试 | 第63-72页 |
| ·测试原理 | 第63-66页 |
| ·实验数据及分析 | 第66-72页 |
| ·优缺点分析 | 第72-73页 |
| 第6章 总结与展望 | 第73-75页 |
| ·总结 | 第73-74页 |
| ·应用前景展望 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-77页 |
| 攻读硕士学位期间主要的研究成果 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78页 |
