| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-25页 |
| ·铁电薄膜材料的研究发展 | 第10-11页 |
| ·铁电薄膜的制备技术及特点 | 第11-15页 |
| ·真空蒸发法 | 第11-12页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第12页 |
| ·分子束外延法 | 第12页 |
| ·化学气相沉积法 CVD（chemical vapor deposition） | 第12-13页 |
| ·Sol-Gel 方法 | 第13-14页 |
| ·溅射法 | 第14-15页 |
| ·铁电薄膜的性质 | 第15-19页 |
| ·自发极化 | 第16页 |
| ·极化反转与电滞回线 | 第16-17页 |
| ·铁电相变与居里－外斯定律 | 第17-18页 |
| ·热释电性 | 第18页 |
| ·介电常数 | 第18-19页 |
| ·电阻率 | 第19页 |
| ·介质损耗 | 第19页 |
| ·铁电薄膜的应用 | 第19-22页 |
| ·存储器件 | 第19页 |
| ·传感与换能器件 | 第19-21页 |
| ·光电子器件和光电集成 | 第21-22页 |
| ·本论文研究的目的、意义及选题依据 | 第22-23页 |
| 参考文献 | 第23-25页 |
| 第二章 PZT 铁电薄膜的结构及基本性质 | 第25-38页 |
| ·PZT 的晶体学结构 | 第25-26页 |
| ·PZT 薄膜性能分析 | 第26-29页 |
| ·PZT 的相图和性能分析 | 第26-28页 |
| ·PZT 材料的应用 | 第28-29页 |
| ·PZT 薄膜的制备技术 | 第29-30页 |
| ·PZT 薄膜的研究现状 | 第30-35页 |
| ·PZT 薄膜的制备工艺研究 | 第30-31页 |
| ·PZT 薄膜过渡层的研究 | 第31-32页 |
| ·PZT 薄膜的掺杂研究 | 第32-33页 |
| ·PZT 厚膜的研究 | 第33-34页 |
| ·PZT 多层膜的研究 | 第34-35页 |
| 本章小结 | 第35页 |
| 参考文献 | 第35-38页 |
| 第三章 射频磁控溅射法制备PZT 铁电薄膜 | 第38-50页 |
| ·磁控溅射溅射法原理及特点 | 第38-41页 |
| ·超高真空多功能磁控溅射简介 | 第38页 |
| ·磁控溅射基本原理 | 第38-39页 |
| ·射频磁控溅射的成膜特点 | 第39-41页 |
| ·PZT 陶瓷靶的制备 | 第41-46页 |
| ·配料 | 第41-42页 |
| ·预烧 | 第42-44页 |
| ·成型 | 第44页 |
| ·烧结 | 第44-46页 |
| ·PZT 铁电薄膜的制备 | 第46-47页 |
| ·基片的设计与准备 | 第46页 |
| ·磁控溅射制备PZT 薄膜 | 第46-47页 |
| ·薄膜的退火后处理 | 第47-48页 |
| ·上电极的制备 | 第48页 |
| 本章小结 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-50页 |
| 第四章 溅射法制备PZT 薄膜的性能研究 | 第50-77页 |
| ·PZT 薄膜的结晶特性分析 | 第50-58页 |
| ·在不同衬底上的PZT 薄膜的结晶特性研究 | 第50-53页 |
| ·不同溅射气氛下制备的PZT 薄膜的结晶特性研究 | 第53-54页 |
| ·不同衬底温度制备的PZT 薄膜的结晶特性研究 | 第54-56页 |
| ·Pb(Zr_(0.80),Ti_(0.20))O_3 和Pb(Zr_(0.20),Ti_(0.80))O_3 多层膜 | 第56-58页 |
| ·PZT 成分分析 | 第58-60页 |
| ·PZT 薄膜的表面形貌分析 | 第60-64页 |
| ·PZT 薄膜的SEM 分析 | 第60-61页 |
| ·PZT 薄膜的AFM 分析 | 第61-64页 |
| ·PZT 薄膜的电学性能分析 | 第64-75页 |
| ·PZT 铁电薄膜样品的准备 | 第64页 |
| ·PZT 铁电薄膜的介质损耗核和介电常数分析 | 第64-70页 |
| ·PZT 铁电薄膜的电滞回线分析 | 第70-75页 |
| 本章小结 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-77页 |
| 第五章 PZT 厚膜的制备及其性能分析 | 第77-91页 |
| ·Sol－Gel 技术 | 第77-79页 |
| ·PZT 溶胶的制备 | 第79-81页 |
| ·原料 | 第79-80页 |
| ·配胶 | 第80-81页 |
| ·PZT 纳米粉体及PZT 粉体悬浊液的制备 | 第81-82页 |
| ·PZT 纳米粉体的制备 | 第81页 |
| ·PZT 粉体在PZT Sol 中的分散与稳定 | 第81-82页 |
| ·PZT 厚膜制备工艺 | 第82-83页 |
| ·PZT 厚膜的性能分析 | 第83-89页 |
| ·PZT 厚膜的XRD 结构分析 | 第83页 |
| ·PZT 厚膜的SEM 形貌分析 | 第83-84页 |
| ·PZT 厚膜电学性能分析 | 第84-86页 |
| ·PZT 厚膜的热释电系数测试 | 第86-88页 |
| ·PZT 厚膜的电滞回线分析 | 第88-89页 |
| 本章小结 | 第89-90页 |
| 参考文献 | 第90-91页 |
| 第六章 主要研究结论及进一步工作建议 | 第91-94页 |
| ·主要研究结论 | 第91-92页 |
| ·进一步工作的建议 | 第92-94页 |
| 附录 | 第94-98页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第94-96页 |
| 攻读硕士期间本人参加的科研项目 | 第96-98页 |
| 致谢 | 第98页 |