光反应型聚合物基微流体反应器的制备
| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-27页 |
| ·微反应器的概念与定义 | 第13-14页 |
| ·微反应器的分类 | 第14-15页 |
| ·气固相催化微反应器 | 第14页 |
| ·液液相微反应器 | 第14页 |
| ·气液相微反应器 | 第14-15页 |
| ·气液固三相催化微反应器 | 第15页 |
| ·微反应器的主要特征 | 第15-17页 |
| ·微反应器的几何特性 | 第15页 |
| ·微反应器内流体的传递特性和宏观流动特性 | 第15-16页 |
| ·微反应器的优点 | 第16-17页 |
| ·微反应器的制作材料和技术 | 第17-26页 |
| ·半导体硅微细加工 | 第18页 |
| ·微细电火花加工 | 第18页 |
| ·高能粒子束加工 | 第18-19页 |
| ·LIGA技术 | 第19-20页 |
| ·UV-LIGA技术 | 第20-21页 |
| ·SU-8光刻胶 | 第21-24页 |
| ·基于SU-8的UV-LIGA技术 | 第24-26页 |
| ·本论文的研究意义及主要内容 | 第26-27页 |
| 第二章 实验内容 | 第27-42页 |
| ·SU-8光刻胶工艺参数的优化 | 第27-31页 |
| ·实验设计方案 | 第27-28页 |
| ·实验试剂、设备和仪器 | 第28-29页 |
| ·实验内容 | 第29-31页 |
| ·优化SU-8光刻工艺的表征 | 第31-32页 |
| ·分析表征仪器 | 第31页 |
| ·SU-8光刻样品的扫描电镜测试 | 第31-32页 |
| ·微流道反应器的设计与制备 | 第32-34页 |
| ·实验设计方案 | 第32-33页 |
| ·实验试剂、设备和仪器 | 第33页 |
| ·实验内容 | 第33-34页 |
| ·光掩膜及相应微流道结构的表征 | 第34-35页 |
| ·分析表征仪器 | 第34页 |
| ·SU-8光刻样品的扫描电镜测试 | 第34-35页 |
| ·SU-8微流体反应器的改性 | 第35-41页 |
| ·实验设计方案 | 第35-36页 |
| ·实验试剂、设备和仪器 | 第36页 |
| ·实验内容 | 第36-41页 |
| ·微流体反应器的改性结果 | 第41-42页 |
| ·分析表征仪器 | 第41-42页 |
| 第三章 结果与讨论 | 第42-60页 |
| ·SU-8光刻工艺的优化 | 第42-48页 |
| ·前烘、曝光及后烘工艺参数的优化 | 第42-46页 |
| ·SU-8胶层厚度的变化及相应工艺参数的调整 | 第46-48页 |
| ·微流体反应器的设计与制备 | 第48-56页 |
| ·光掩膜的设计与制备 | 第48-49页 |
| ·使用不同光掩膜所得SU-8微流道结构的表征 | 第49-50页 |
| ·微流道的封盖 | 第50-56页 |
| ·微流体反应器的改性 | 第56-58页 |
| ·基体的选择与改性 | 第56页 |
| ·微流体反应器的亲水化处理 | 第56-58页 |
| ·微流体反应器的结构与功能 | 第58-60页 |
| 第四章 结论 | 第60-61页 |
| 1.SU-8光刻工艺的优化 | 第60页 |
| 2.微流体反应器的制备 | 第60页 |
| 3.微流体反应器的改性 | 第60页 |
| 4.展望 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 研究成果及发表的学术论文 | 第65-66页 |
| 作者简介 | 第66-67页 |
| 导师简介 | 第67-68页 |
| 附件 | 第68-69页 |
