基于多层介质膜的三维光子晶体设计与制备
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-18页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·光子晶体原理与特性 | 第11-12页 |
| ·光子晶体分类 | 第12页 |
| ·光子晶体制备方法 | 第12-14页 |
| ·光子晶体应用 | 第14-15页 |
| 参考文献 | 第15-18页 |
| 第二章 光子晶体研究方法 | 第18-31页 |
| ·光子晶体理论方法 | 第18-26页 |
| ·一维光子晶体制备方法 | 第26-28页 |
| ·三维光子晶体制备方法 | 第28-29页 |
| ·光子晶体表征方法 | 第29页 |
| 参考文献 | 第29-31页 |
| 第三章 一维光子晶体制备 | 第31-39页 |
| ·薄膜生长机理 | 第31-32页 |
| ·多层介质膜制备 | 第32-38页 |
| 参考文献 | 第38-39页 |
| 第四章 三维光子晶体设计与性能预测 | 第39-50页 |
| ·排列方式的影响 | 第39-41页 |
| ·折射率的影响 | 第41-43页 |
| ·晶格常数的影响 | 第43-45页 |
| ·三维光子晶体模型 | 第45-48页 |
| 参考文献 | 第48-50页 |
| 第五章 三维光子晶体制备 | 第50-59页 |
| ·工艺流程 | 第50页 |
| ·光刻工艺 | 第50-55页 |
| ·刻蚀工艺 | 第55页 |
| ·制备工艺对其形貌的影响 | 第55-58页 |
| 参考文献 | 第58-59页 |
| 总结与展望 | 第59-60页 |
| 本人硕士期间发表和完成的文章 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61页 |
