| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-29页 |
| ·课题背景 | 第14-15页 |
| ·磁控溅射技术 | 第15-20页 |
| ·磁控溅射技术的简介及发展 | 第15-19页 |
| ·非平衡磁控溅射的特点 | 第19页 |
| ·离子束辅助非平衡磁控溅射技术 | 第19-20页 |
| ·纳米多层膜的研究现状及进展 | 第20-27页 |
| ·纳米多层膜的出现及发展过程 | 第20-22页 |
| ·纳米多层膜的分类 | 第22页 |
| ·纳米多层膜力学性能的研究现状 | 第22-25页 |
| ·纳米多层膜的超硬机理的研究现状 | 第25-27页 |
| ·本课题的研究意义 | 第27-28页 |
| ·本课题的研究内容 | 第28-29页 |
| 第二章 实验方法及设备 | 第29-35页 |
| ·实验仪器 | 第29-30页 |
| ·薄膜的制备 | 第30-32页 |
| ·离子源清洗 | 第30页 |
| ·靶离子清洗 | 第30-31页 |
| ·薄膜的制备工艺流程 | 第31页 |
| ·实验的技术路线 | 第31-32页 |
| ·性能检测及方法 | 第32-35页 |
| ·透射电子显微分析 | 第32页 |
| ·XRD分析 | 第32页 |
| ·SEM分析 | 第32页 |
| ·结合力的测定 | 第32-34页 |
| ·硬度及厚度的检测 | 第34页 |
| ·膜层的抗氧化性能实验 | 第34页 |
| ·膜层的耐腐蚀性能实验 | 第34-35页 |
| 第三章 TiN薄膜的制备及性能分析 | 第35-50页 |
| ·引言 | 第35页 |
| ·直流非平衡磁控溅射制备TiN薄膜工艺的研究 | 第35-46页 |
| ·基片及靶材 | 第35页 |
| ·实验流程 | 第35页 |
| ·正交实验 | 第35-39页 |
| ·负偏压对TiN薄膜的影响 | 第39-43页 |
| ·氮气流量对薄膜结构和性能的影响 | 第43-46页 |
| ·最佳工艺下制备TiN薄膜的形貌观察及物相分析 | 第46-48页 |
| ·本章小结 | 第48-50页 |
| 第四章 TiN/AlN纳米多层膜的力学性能研究 | 第50-64页 |
| ·TiN/AlN纳米多层膜的制备 | 第50-52页 |
| ·沉积速率的测定 | 第50-51页 |
| ·TiN/AlN纳米多层膜的制备工艺 | 第51-52页 |
| ·TiN/AlN纳米多层膜的微结构分析 | 第52-56页 |
| ·小角度XRO分析 | 第52-53页 |
| ·TEM分析 | 第53-55页 |
| ·SEM分析 | 第55-56页 |
| ·力学性能分析 | 第56-60页 |
| ·周期对薄膜硬度的影响 | 第57-58页 |
| ·偏压对硬度的影响 | 第58-59页 |
| ·氮气流量对硬度的影响 | 第59-60页 |
| ·TiN/AlN纳米多层膜结合力的测定 | 第60-61页 |
| ·TiN/AlN纳米多层膜的超硬现象分析 | 第61-63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 第五章 TiN/AlN纳米多层膜的抗氧化抗腐蚀研究 | 第64-68页 |
| ·TiN/AlN薄膜的耐腐蚀性能 | 第64-65页 |
| ·TiN/AlN纳米多层膜的抗氧化性能 | 第65-67页 |
| ·实验分析 | 第65-66页 |
| ·薄膜抗氧化性能分析 | 第66-67页 |
| ·本章小结 | 第67-68页 |
| 结论 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-76页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第76-78页 |
| 致谢 | 第78页 |