| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-22页 |
| ·人类与显示技术 | 第7-13页 |
| ·液晶在显示技术中的地位 | 第13-20页 |
| ·液晶显示应用技术发展趋势 | 第20-22页 |
| 第二章 最新硅基液晶显示器件的加工工艺 | 第22-39页 |
| ·多晶硅液晶显示 | 第22-24页 |
| ·单晶硅液晶显示(微型硅基液晶显示器LCOS) | 第24-29页 |
| ·反射式液晶显示器件 | 第29-31页 |
| ·LCOS显示器制造工艺流程 | 第31-39页 |
| 第三章 TFT-LCD取向层工艺及关键参数 | 第39-46页 |
| ·工艺原理 | 第39-41页 |
| ·实验 | 第41页 |
| ·结果与讨论 | 第41-45页 |
| ·结论 | 第45-46页 |
| 第四章 TFT-LCD工艺过程中ESD的改善 | 第46-51页 |
| ·ESD现象及危害 | 第46-47页 |
| ·ESD现象分析 | 第47-48页 |
| ·ESD机理分析 | 第48-50页 |
| ·ESD改善 | 第50-51页 |
| 第五章 液晶灌注工艺研究 | 第51-57页 |
| ·实验及讨论 | 第51-56页 |
| ·结论 | 第56-57页 |
| 结论 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59页 |