铝微弧氧化膜的制备及其性能研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 引言 | 第9-10页 |
| 1 文献综述 | 第10-24页 |
| ·微弧氧化技术概述 | 第10-16页 |
| ·微弧氧化技术与其他电化学表面处理技术的对比 | 第10-12页 |
| ·微弧氧化的机理 | 第12-14页 |
| ·微弧氧化的基本过程 | 第14-15页 |
| ·微弧氧化技术的发展及研究现状 | 第15-16页 |
| ·微弧氧化膜的制备及性能 | 第16-20页 |
| ·微弧氧化膜的生成条件 | 第16-17页 |
| ·影响微弧氧化膜制备的因素 | 第17-18页 |
| ·微弧氧化膜的制备工艺 | 第18-19页 |
| ·微弧氧化膜的组成结构及性能特点 | 第19-20页 |
| ·微弧氧化技术的应用 | 第20-22页 |
| ·选题目的及意义 | 第22-23页 |
| ·研究内容介绍 | 第23-24页 |
| 2 实验条件 | 第24-29页 |
| ·铝微弧氧化实验装置 | 第24-25页 |
| ·制备的装置及流程 | 第24-25页 |
| ·单向脉冲微弧氧化电源 | 第25页 |
| ·测试仪器 | 第25-27页 |
| ·涡流涂层测厚仪 | 第25页 |
| ·HVS1000型数显显微硬度计 | 第25-26页 |
| ·粗糙度仪 | 第26页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第26页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第26页 |
| ·耐蚀性测试 | 第26-27页 |
| ·基本工艺参数的确定 | 第27页 |
| ·实验方案 | 第27-29页 |
| 3 电解液参数对铝微弧氧化膜层性能的影响 | 第29-38页 |
| ·实验条件 | 第29页 |
| ·实验内容 | 第29-30页 |
| ·不同电解液体系情况下的对比 | 第29页 |
| ·硅酸钠体系下各电解质浓度变化对陶瓷膜性能的影响 | 第29-30页 |
| ·结果与讨论 | 第30-37页 |
| ·不同电解液对氧化膜粗糙度和厚度的影响 | 第30页 |
| ·不同电解液体系对氧化膜硬度的影响 | 第30-31页 |
| ·两种电解液中氧化陶瓷膜的相组成 | 第31-33页 |
| ·两种电解液体系下生成的微弧氧化膜的表面形貌 | 第33-34页 |
| ·两种电解液体系下生成的陶瓷膜耐蚀性研究 | 第34-35页 |
| ·电解液中各组分浓度变化对氧化膜的影响 | 第35-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 4 电参数对铝微弧氧化膜性能的影响 | 第38-48页 |
| ·实验条件 | 第38页 |
| ·实验内容 | 第38页 |
| ·结果与讨论 | 第38-47页 |
| ·微弧氧化陶瓷层表面形貌及相组成 | 第38-42页 |
| ·电流密度对铝微弧氧化陶瓷层性能的影响 | 第42-44页 |
| ·占空比对微弧氧化陶瓷层性能的影响 | 第44-46页 |
| ·频率对微弧氧化陶瓷膜的影响 | 第46-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 5 正交试验设计 | 第48-56页 |
| ·正交试验设计的试验计划 | 第48页 |
| ·结果与讨论 | 第48-55页 |
| ·试验结果的分析 | 第48-51页 |
| ·陶瓷层的表面形貌 | 第51-54页 |
| ·微弧氧化陶瓷层相结构分析 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 结论 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-60页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
