摘要 | 第1-8页 |
ABSTRACT | 第8-15页 |
第一章 绪论 | 第15-38页 |
·电化学方法处理难降解有机废水的研究进展 | 第15-28页 |
·内电解法处理废水 | 第16页 |
·电解法 | 第16-20页 |
·电渗析法 | 第20页 |
·电凝聚法 | 第20-21页 |
·电化学的组合和衍生技术 | 第21-22页 |
·电化学氧化技术的现状及其发展 | 第22-28页 |
·金刚石薄膜的性能、制备和应用 | 第28-34页 |
·金刚石薄膜的结构、性能与应用 | 第28-29页 |
·金刚石的来源和人工制备方法 | 第29-30页 |
·化学气相沉积(CVD)金刚石薄膜的制备方法 | 第30-32页 |
·掺硼金刚石薄膜电极 | 第32-34页 |
·微阵列电极制备、性能和应用 | 第34-35页 |
·本论文研究的目标、内容和技术路线 | 第35-38页 |
·目标 | 第35-36页 |
·内容 | 第36-37页 |
·技术路线 | 第37-38页 |
第二章 Cu-C电化学转盘法处理有机废水的研究 | 第38-64页 |
·引言 | 第38-40页 |
·实验部分 | 第40-46页 |
·实验仪器 | 第40-41页 |
·实验试剂及材料 | 第41-42页 |
·实验分析方法 | 第42-44页 |
·Cu-C电化学转盘装置制作 | 第44-45页 |
·电化学方法 | 第45页 |
·不同因素对脱色效果、COD_(Cr)去除率的影响 | 第45-46页 |
·Cu-C电化学转盘法处理活性艳橙X—GN模拟染料废水 | 第46-53页 |
·不同实验条件对活性艳橙X—GN模拟染料废水脱色效果的影响 | 第46-49页 |
·活性艳橙X-GN模拟染料废水降解产物紫外可见光谱分析 | 第49-50页 |
·活性艳橙X-GN模拟染料废水降解产物IR分析 | 第50-53页 |
·Cu-C电化学转盘法处理活性艳蓝X—BR的研究 | 第53-59页 |
·电解过程中溶解氧的变化 | 第53-54页 |
·电解过程中各不同实验条件对脱色率和CODCr去除率的影响 | 第54-59页 |
·UV-Vis图谱分析 | 第59页 |
·Cu-C电化学转盘法处理切削液废水的研究 | 第59-62页 |
·转速对切削液废水含油量去除的影响 | 第60页 |
·Cu-C电化学转盘法与传统三维电极法的比较 | 第60-62页 |
·Cu-C电化学转盘法对切削液废水的CODCr去除效果 | 第62页 |
·本章小结 | 第62-64页 |
第三章 掺硼金刚石薄膜微阵列电极制作及其性能表征 | 第64-95页 |
·引言 | 第64-71页 |
·生成金刚石的条件 | 第64-65页 |
·生成金刚石的两个阶段 | 第65页 |
·影响金刚石成核和生长的主要工艺参数 | 第65-69页 |
·掺硼金刚石薄膜的性质及其应用价值 | 第69页 |
·掺硼金刚石薄膜的制备方法 | 第69-70页 |
·金刚石薄膜图形化的方法 | 第70-71页 |
·实验仪器及试剂 | 第71-74页 |
·实验仪器 | 第71页 |
·实验试剂及材料 | 第71-72页 |
·金刚石薄膜生长实验装置图 | 第72-74页 |
·BDD微阵列电极制备流程图 | 第74页 |
·本征金刚石的生长 | 第74-83页 |
·钽丝的碳化 | 第74-75页 |
·硅基片表面不同预处理方法对金刚石成核密度的影响 | 第75-78页 |
·不同生长条件对金刚石薄膜的影响 | 第78-81页 |
·Raman光谱 | 第81页 |
·糙度测量 | 第81-83页 |
·图形化 | 第83页 |
·掺硼金刚石的生长 | 第83-86页 |
·氮氧化硅薄膜牺牲层的去除 | 第86-88页 |
·Raman光谱 | 第88-89页 |
·电化学性能表征 | 第89-93页 |
·掺硼金刚石微阵列电极电位窗口的测定 | 第89-90页 |
·掺硼金刚石微阵列电极电化学反应的可逆性和动力学特性 | 第90-93页 |
·本章小结 | 第93-95页 |
第四章 BDD微阵列电极电化学转盘法处理染料废水的研究 | 第95-111页 |
·引言 | 第95-96页 |
·实验材料与方法 | 第96-99页 |
·实验仪器 | 第96页 |
·实验试剂及材料 | 第96-97页 |
·实验方法 | 第97-98页 |
·分析方法 | 第98页 |
·BDD 微阵列电极电化学转盘法处理有机废水的实验装置图 | 第98-99页 |
·实验结果与讨论 | 第99-110页 |
·不同实验条件对酸性深蓝P-2RB模拟染料废水脱色效果的影响 | 第99-102页 |
·UV-Vis分析 | 第102-103页 |
·在最优条件下COD_(Cr)的去除率的变化 | 第103页 |
·处理实际染料废水 | 第103-106页 |
·BDD微阵列电化学转盘法处理活性艳蓝X-BR的研究 | 第106-107页 |
·Cu-C电化学转盘法和BDD电化学转盘法处理模拟染料废水活性艳蓝X-BR的比较 | 第107-110页 |
·本章小结 | 第110-111页 |
第五章 结论与展望 | 第111-115页 |
·主要结论 | 第111-113页 |
·主要创新点 | 第113-114页 |
·展望 | 第114-115页 |
参考文献 | 第115-133页 |
致谢 | 第133页 |