摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-10页 |
第一章 绪论 | 第10-28页 |
·前言 | 第10页 |
·氮化硅陶瓷 | 第10-12页 |
·氮化硅陶瓷的性能和应用 | 第11页 |
·氮化硅在有色合金熔炼行业的应用 | 第11-12页 |
·存在问题和发展方向 | 第12页 |
·氮化硅结合碳化硅陶瓷 | 第12-20页 |
·Si_3N_4/SiC陶瓷材料 | 第12-19页 |
·Si_3N_4/SiC在有色金属熔炼行业的应用 | 第19页 |
·Si_3N_4/SiC在铝电解行业的应用 | 第19-20页 |
·陶瓷成型技术 | 第20-23页 |
·成型方法分类 | 第20页 |
·冷等静压技术 | 第20-22页 |
·陶瓷冷等静压成型 | 第22页 |
·粘结剂 | 第22-23页 |
·氮化硅陶瓷烧结 | 第23-26页 |
·氮化硅烧结方式 | 第23-24页 |
·反应烧结 | 第24-26页 |
·选题依据、研究目的和研究内容 | 第26-28页 |
·选题依据 | 第26页 |
·研究目的 | 第26页 |
·研究内容 | 第26-28页 |
第二章 实验方案及研究方法 | 第28-34页 |
·原料选用 | 第28页 |
·粉料 | 第28页 |
·粘结剂 | 第28页 |
·成型工艺 | 第28-29页 |
·烧结工艺 | 第29-30页 |
·性能测试 | 第30-34页 |
·坯体强度 | 第30-31页 |
·成份及微观结构 | 第31页 |
·基本物理性能 | 第31-32页 |
·抗热震性能 | 第32-33页 |
·热物理性能 | 第33-34页 |
第三章 SiC添加量对 Si_3N_4/SiC性能的影响 | 第34-46页 |
·前言 | 第34页 |
·基本物理性能 | 第34-37页 |
·坯体密度与强度 | 第34-35页 |
·烧结后密度与显气孔率 | 第35-36页 |
·烧结后强度 | 第36-37页 |
·相组成 | 第37-39页 |
·显微结构 | 第39-41页 |
·热物理性能 | 第41-43页 |
·热扩散性能 | 第41-42页 |
·热膨胀性能 | 第42-43页 |
·抗热震性能 | 第43-45页 |
·本章小结 | 第45-46页 |
第四章 Si_3N_4添加量对反应烧结产物的影响 | 第46-56页 |
·前言 | 第46页 |
·基本物理性能 | 第46-48页 |
·坯体密度和强度 | 第46-47页 |
·烧结后密度和显气孔率 | 第47-48页 |
·材料烧结后的强度 | 第48页 |
·相组成 | 第48-50页 |
·显微结构 | 第50-51页 |
·热物理性能 | 第51-53页 |
·热扩散性能 | 第51-52页 |
·热膨胀性能 | 第52-53页 |
·抗热震性能 | 第53-55页 |
·本章小结 | 第55-56页 |
第五章 氮化硅陶瓷精密成型及验证 | 第56-64页 |
·前言 | 第56页 |
·模具设计 | 第56-63页 |
·模具设计思路 | 第56-57页 |
·升液管 | 第57-60页 |
·喇叭管 | 第60-61页 |
·粗盲管 | 第61-63页 |
·本章小结 | 第63-64页 |
结论 | 第64-66页 |
参考文献 | 第66-74页 |
硕士期间所取得的成果及发表的学术论文 | 第74-76页 |
致谢 | 第76-78页 |