| 前言 | 第1-9页 |
| 第一章 硬质薄膜研究进展及硬化理论综述 | 第9-23页 |
| 第一节 硬质薄膜的研究与应用进展 | 第9-19页 |
| 1．1 硬质薄膜的发展 | 第9-16页 |
| 1．2 硬质薄膜的应用发展现状 | 第16-19页 |
| 第二节 薄膜材料硬度增强理论综述 | 第19-23页 |
| 第二章 实验设备与样品测量方法 | 第23-31页 |
| 第一节 等离子体的产生与应用 | 第23-24页 |
| 第二节 真空阴极弧离子镀与ABS法 | 第24-27页 |
| 第三节 样品测量方法与理论 | 第27-31页 |
| 第三章 实验过程与结果分析 | 第31-65页 |
| 第一节 TiN薄膜的制备与性能研究 | 第31-40页 |
| 1．1 直流与脉冲偏压制备TiN薄膜的性能 | 第31-36页 |
| 1．2 低剂量Al、V元素掺杂对TiN薄膜结构与性能的影响 | 第36-40页 |
| 第二节 脉冲偏压阴极弧制备(Ti，Al)N薄膜 | 第40-51页 |
| 2．1 占空比变化制备(Ti，Al1)N薄膜实验与结果分析 | 第40-44页 |
| 2．2 脉冲偏压对(Ti，Al)N薄膜结构与性能的影响 | 第44-50页 |
| 2．3 Ti离子刻蚀对薄膜结合性能的研究 | 第50-51页 |
| 第三节 超高铝含量对(Ti，Al)N薄膜相交与机械性能影响研究 | 第51-61页 |
| 3．1 Al含量对(Ti，Al)N薄膜结构和硬度影响 | 第51-54页 |
| 3．2 微量Si元素对超Al含量薄膜结构与性能影响 | 第54-56页 |
| 3．3 TiAlN／含Si-AlTiN多层薄膜的微结构和硬度 | 第56-58页 |
| 3．4 液滴对(Ti，Al)N薄膜的影响及改进措施 | 第58-61页 |
| 第四节 研究用ABS法制备高Al含量TiAlN | 第61-65页 |
| 4．1 高Al含量TiAlN薄膜制备过程中的靶中毒现象与薄膜微结构分析 | 第61-63页 |
| 4．2 ABS法中的靶中毒现象分析 | 第63-65页 |
| 第四章 总结 | 第65-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-72页 |
