| 第1章 绪论 | 第1-22页 |
| ·磁记录的发展历史与未来展望 | 第10-14页 |
| ·磁记录知识简介 | 第14-21页 |
| ·磁记录介质 | 第15-17页 |
| ·磁记录磁头 | 第17-19页 |
| ·高密度磁记录对记录介质材料的要求 | 第19-21页 |
| 参考文献 | 第21-22页 |
| 第2章 薄膜的制备及其性能的表征 | 第22-34页 |
| ·薄膜的制备 | 第22-26页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第22-23页 |
| ·溅射原理 | 第23-24页 |
| ·薄膜的生长过程 | 第24-25页 |
| ·基片的选择与清洗 | 第25页 |
| ·靶的准备 | 第25页 |
| ·薄膜制备条件的选择与控制 | 第25-26页 |
| ·薄膜性能的表征 | 第26-32页 |
| ·薄膜膜厚及面积的测量 | 第26-29页 |
| ·薄膜晶体结构的分析 | 第29页 |
| ·薄膜磁学性能的测量 | 第29-32页 |
| 参考文献 | 第32-34页 |
| 第3章 CoPt合金薄膜 | 第34-47页 |
| ·Co-Pt二元合金的晶体结构 | 第35-36页 |
| ·超晶格结构的长程有序度表征 | 第36-37页 |
| ·CoPt合金薄膜中Co含量对薄膜性能的影响 | 第37-40页 |
| ·退火温度对CoPt合金磁性能的影响 | 第40-45页 |
| 参考文献 | 第45-47页 |
| 第4章 掺杂对CoPt薄膜性能的影响 | 第47-61页 |
| ·Ag的添加对CoPt合金薄膜磁性能和晶体结构的影响 | 第47-51页 |
| ·SiO_2的添加对CoPt合金的影响 | 第51-56页 |
| ·Cu的添加对CoPt合金的影响 | 第56-60页 |
| 参考文献 | 第60-61页 |
| 第5章 结论 | 第61-62页 |
| 硕士期间发表文章 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63页 |