| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-11页 |
| 第一章 导论 | 第11-28页 |
| §1.1 硅的纳米结构和硅基纳米体系 | 第11-12页 |
| §1.2 利用硅模板制备硅基纳米体系 | 第12-15页 |
| §1.2.1 纳米体系的模板制备法 | 第13-14页 |
| §1.2.2 多孔硅基纳米复合体系的膜板制备法 | 第14-15页 |
| §1.3 硅基冷阴极场发射材料 | 第15-26页 |
| §1.3.1 硅基尖锥形阴极阵列 | 第17-22页 |
| §1.3.2 多孔硅基复合场发射材料 | 第22-24页 |
| §1.3.3 平面硅基场发射阴极 | 第24-26页 |
| §1.3.4 硅基场发射材料现存问题与展望 | 第26页 |
| §1.4 本论文研究内容 | 第26-28页 |
| 第二章 金／硅纳米孔柱阵列复合体系的制备与结构 | 第28-68页 |
| §2.1 硅纳米孔柱阵列(Si-NPA)模板的制备与结构 | 第28-33页 |
| §2.1.1 制备 | 第28-29页 |
| §2.1.2 结构与表面形貌 | 第29-31页 |
| §2.1.3 表面成分分析 | 第31-33页 |
| §2.2 金／硅纳米孔柱阵列(Au／Si-NPA)的制备 | 第33页 |
| §2.3 金／硅纳米孔柱阵列(Au／Si-NPA)的表征 | 第33-44页 |
| §2.3.1 以新鲜Si-NPA为模板制备的Au／Si-NPA表征 | 第33-36页 |
| §2.3.2 以老化Si-NPA为模板制备的Au／Si-NPA表征 | 第36-40页 |
| §2.3.3 以快速氧化Si-NPA为模板制备的Au／Si-NPA的表征 | 第40-44页 |
| §2.4 金的沉积时间对Au／Si-NPA表面形貌的影响 | 第44-50页 |
| §2.4.1 在新鲜Si-NPA上沉积金 | 第44-47页 |
| §2.4.2 在老化Si-NPA上沉积金 | 第47-48页 |
| §2.4.3 在老化和新鲜Si-NPA上沉积金不同时间得到的Au／Si-NPA的对比 | 第48-50页 |
| §2.5 金向衬底扩散的能力 | 第50-53页 |
| §2.6 Au／Si-NPA的形成机理 | 第53-67页 |
| §2.6.1 金属在硅表面上的沉积 | 第53-58页 |
| §2.6.2 多孔硅无电镀还原金属的机理 | 第58-60页 |
| §2.6.3 多孔硅无电镀还原金属的机理 | 第60-63页 |
| §2.6.4 在两组Si-NPA上沉积金的机理 | 第63-67页 |
| §2.7 本章总结 | 第67-68页 |
| 第三章 硅纳米孔柱阵列的场致电子发射 | 第68-87页 |
| §3.1 前言 | 第68-69页 |
| §3.2 场致发射基本原理 | 第69-71页 |
| §3.3 场发射理论的发展和模型 | 第71-74页 |
| §3.3.1 场发射理论的发展 | 第71-73页 |
| §3.3.2 场发射理论模型 | 第73-74页 |
| §3.4 场发射性能 | 第74-77页 |
| §3.4.1 场发射电流密度 | 第74-75页 |
| §3.4.2 场发射稳定性 | 第75-76页 |
| §3.4.3 场发射电流均匀性 | 第76-77页 |
| §3.4.4 场发射材料 | 第77页 |
| §3.5 硅纳米孔柱阵列的场致电子发射 | 第77-86页 |
| §3.5.1 场发射测试 | 第77-78页 |
| §3.5.2 新鲜Si-NPA场发射性能 | 第78-81页 |
| §3.5.3 老化Si-NPA场发射性能 | 第81-83页 |
| §3.5.4 极限场强测试后Si-NPA场发射及其形貌的变化 | 第83-86页 |
| §3.6 Si-NPA的场发射机理 | 第86-87页 |
| 第四章 金／硅纳米孔柱阵列的场致电子发射 | 第87-107页 |
| §4.1 前言 | 第87-88页 |
| §4.2 样品的测试手段 | 第88-89页 |
| §4.3 新鲜Si-NPA为衬底的Au／Si-NPA的表面形貌及其场发射 | 第89-101页 |
| §4.3.1 首次放入真空室的场发射 | 第89-94页 |
| §4.3.2 第二次放入真空室内的场发射 | 第94-97页 |
| §4.3.3 不同金沉积时间的Au／Si-NPA的场发射的比较 | 第97-100页 |
| §4.3.4 同制备条件样品场发射的比较 | 第100-101页 |
| §4.4 老化Si-NPA为衬底的Au／Si—NPA的场发射 | 第101-104页 |
| §4.5 Si-NPA和Au／Si-NPA场发射性能的比较 | 第104-105页 |
| §4.6 本章总结 | 第105-107页 |
| 第五章 以Si-NPA为模板制备纳米金属薄膜 | 第107-134页 |
| §5.1 前言 | 第107-108页 |
| §5.2 Si-NPA模板的制备及表征 | 第108页 |
| §5.3 Cu／Si-NPA | 第108-112页 |
| §5.3.1 Cu／Si-NPA的制备 | 第108页 |
| §5.3.2 结果与讨论 | 第108-112页 |
| §5.3.3 小结 | 第112页 |
| §5.4 Au／Si-NPA | 第112-114页 |
| §5.4.1 Au／Si-NPA的制备 | 第113页 |
| §5.4.2 结果与讨论 | 第113-114页 |
| §5.5 自支撑Au／Si-NPA膜和金网膜 | 第114-123页 |
| §5.5.1 自支撑Au／Si-NPA膜和金网络膜形成的过程 | 第114-116页 |
| §5.5.2 自支撑Au／Si-NPA膜和金网络膜表征 | 第116-122页 |
| §5.5.3 小结 | 第122-123页 |
| §5.6 自支撑金纳米网膜 | 第123-133页 |
| §5.6.1 自支撑金纳米薄膜的制备 | 第123页 |
| §5.6.2 自支撑金纳米薄膜的结构 | 第123-126页 |
| §5.6.3 自支撑金纳米薄膜的形成机理 | 第126-128页 |
| §5.6.4 自支撑金纳米薄膜氮吸附特性 | 第128-132页 |
| §5.6.5 小结 | 第132-133页 |
| §5.7 本章总结 | 第133-134页 |
| 第六章 总结 | 第134-137页 |
| 参考文献 | 第137-162页 |
| 后记 | 第162-164页 |
| 致谢 | 第164页 |
