| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-9页 |
| 1 导论 | 第9-19页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·铝合金传统表面着色工艺 | 第9-11页 |
| ·阳极氧化膜染料着色工艺 | 第9-10页 |
| ·阳极氧化膜电解着色工艺 | 第10页 |
| ·阳极氧化直接着色工艺 | 第10-11页 |
| ·微等离子体氧化表面处理工艺 | 第11-16页 |
| ·微等离子体氧化技术简介 | 第11-12页 |
| ·微等离子体氧化技术基本原理 | 第12-14页 |
| ·微等离子体氧化技术的发展 | 第14-15页 |
| ·微等离子体氧化膜层的性能特点 | 第15页 |
| ·微等离子体氧化技术的工艺特点及应用领域 | 第15-16页 |
| ·本课题研究内容和创新 | 第16-17页 |
| ·本课题研究的主要内容 | 第16-17页 |
| ·本课题研究的主要创新点 | 第17页 |
| ·本课题研究的技术路线 | 第17-19页 |
| 2 试验材料、设备和方法 | 第19-27页 |
| ·试验材料和试样制备 | 第19-20页 |
| ·试样材料 | 第19页 |
| ·试样制备 | 第19-20页 |
| ·试验用试剂 | 第20页 |
| ·试验设备和器材 | 第20-22页 |
| ·试样检测 | 第22-24页 |
| ·试验工艺过程 | 第24-27页 |
| ·前处理工艺 | 第24-25页 |
| ·微等离子体氧化处理 | 第25页 |
| ·后处理工艺 | 第25-27页 |
| 3 微等离子体氧化试验研究 | 第27-44页 |
| ·电解液成分的确定 | 第27-38页 |
| ·Fe-Cr-Co 系二步氧化成膜法电解液试验研究 | 第27-33页 |
| ·W-P-Mo 系一步氧化成膜法电解液试验研究 | 第33-38页 |
| ·Fe-Cr-Co 系与W-P-Mo 系电解液膜层性能比较 | 第38页 |
| ·电参数的确定 | 第38-42页 |
| ·直流恒流 | 第38-40页 |
| ·直流阶梯恒压 | 第40-41页 |
| ·交流恒流 | 第41-42页 |
| ·不同电源模式下膜层性能比较 | 第42页 |
| ·最佳工艺参数验证试验 | 第42-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 4 试验结果及分析 | 第44-54页 |
| ·膜层截面和表面形貌 | 第44-47页 |
| ·膜层截面微观形貌分析 | 第44-45页 |
| ·膜层表面微观形貌分析 | 第45-47页 |
| ·膜层物相分析 | 第47-50页 |
| ·W-P-Mo 系膜层相结构分析 | 第47-48页 |
| ·Fe-Cr-Co 系膜层相结构分析 | 第48-50页 |
| ·影响微等离子体氧化黑色陶瓷膜制备工艺的其他因素 | 第50-54页 |
| ·阴极位置及其大小的影响 | 第50-51页 |
| ·试样的装夹及其形状的影响 | 第51-54页 |
| 5 黑色陶瓷膜的生长机理 | 第54-63页 |
| ·表面阻挡层的生成 | 第54-58页 |
| ·试样表面与电解液间电场的形成 | 第54-55页 |
| ·初期氧化膜的生成(阳极氧化阶段) | 第55-58页 |
| ·阻挡层的电击穿 | 第58-60页 |
| ·无定形氧化膜层的生长 | 第60-61页 |
| ·局部陶瓷氧化膜层的形成 | 第61页 |
| ·陶瓷氧化膜的电击穿 | 第61-62页 |
| ·陶瓷氧化膜层的生长 | 第62-63页 |
| 6 结论与展望 | 第63-65页 |
| ·主要结论 | 第63-64页 |
| ·后续研究工作的展望 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-70页 |
| 附录:1.作者在攻读硕士学位期间发表的论文 | 第70-71页 |
| 独创性声明 | 第71页 |
| 学位论文版权使用授权书 | 第71页 |