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硫化物膜的离子选择性与碳钢的腐蚀电化学行为

第一章 文献综述第1-36页
   ·前言第9页
   ·H2S腐蚀及腐蚀产物膜第9-12页
   ·双极膜理论第12-18页
   ·离子选择性研究第18-33页
   ·研究目的与意义第33-36页
第二章 硫化亚铁膜的离子选择性第36-64页
   ·前言第36页
   ·实验方法第36-40页
     ·膜的制备与膜电位测量第36-37页
     ·X-射线衍射第37页
     ·扫描电镜第37-38页
     ·静态失重法第38页
     ·极化曲线测量第38-39页
     ·电化学阻抗测试第39-40页
   ·实验结果与讨论第40-62页
     ·膜电位曲线第40-44页
       ·硫化亚铁膜电位曲线第40-41页
       ·硫化亚铁膜吸附Ca2+、Mg2+、Ba2+等阳离子后的电位曲线第41-42页
       ·硫化亚铁膜吸附MoO42-、PO43-和咪唑啉化合物后的电位曲线第42-43页
       ·硫化亚铁膜在碱性溶液中的电位曲线第43页
       ·氢氧化亚铁膜电位曲线第43-44页
     ·X-射线衍射分析第44-47页
       ·硫化亚铁沉淀膜的X-射线衍射第44-45页
       ·氢氧化亚铁沉淀膜X-射线衍射第45页
       ·硫化亚铁沉淀膜浸泡不同介质后X-射线衍射第45-47页
     ·扫描电镜第47-52页
       ·硫化亚铁沉淀膜的形貌第47-48页
       ·氢氧化亚铁沉淀膜的形貌第48-49页
       ·硫化亚铁膜浸泡过不同介质后的形貌第49-52页
     ·碳钢在不同介质中的腐蚀速度第52-55页
     ·碳钢在不同介质中的极化曲线第55-56页
     ·碳钢的交流阻抗谱第56-62页
       ·有无腐蚀产物时的碳钢的交流阻抗第56-59页
       ·浸泡不同介质的腐蚀产物交流阻抗第59-62页
   ·本章小结第62-64页
第三章 铜、镍化合物膜的离子选择性第64-72页
   ·前言第64页
   ·实验方法第64页
     ·膜的制备与膜电位测量第64页
     ·X-射线衍射第64页
     ·扫描电镜第64页
   ·实验结果与讨论第64-71页
     ·膜电位曲线第64-67页
       ·硫化镍、硫化铜沉淀膜的膜电位曲线第64-65页
       ·氢氧化镍、氢氧化铜沉淀膜的膜电位曲线第65-67页
     ·X-射线衍射分析第67-69页
       ·硫化铜、硫化镍沉淀膜X-射线衍射第67-68页
       ·氢氧化铜、氢氧化镍沉淀膜X-射线衍射第68-69页
     ·硫化铜、硫化镍沉淀膜扫描电镜第69-71页
   ·本章小结第71-72页
第四章 全文总结第72-74页
参考文献第74-78页
致谢第78-79页
攻读硕士学位期间发表的学术论文目录第79页

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