首页--工业技术论文--一般工业技术论文--工业通用技术与设备论文--薄膜技术论文

nc-Si/a-Si:H柱状结构复合光导层液晶光阀的制备研究

致谢第1-3页
中文摘要第3-5页
英文摘要第5-7页
目录第7-10页
第一章 绪论第10-12页
第二章 文献综述第12-29页
 2.1 反射式光寻址液晶光阀第12-14页
 2.2 液晶光阀的结构和工作原理第14-16页
 2.3 液晶光阀的应用第16-20页
  2.3.1 非相干光转换成相干光第16页
  2.3.2 实时光学相关第16-17页
  2.3.3 实时图像相减第17-18页
  2.3.4 光计算第18-20页
 2.4 非晶硅薄膜第20-28页
  2.4.1 非晶硅薄膜的结构第20-21页
  2.4.2 PECVD法制备a-Si:H薄膜的生长机制第21-23页
  2.4.3 光导层中载流子的横向扩散与光阀分辨率的关系第23-25页
  2.4.4 柱状结构复合薄膜对液晶光阀分辨率的影响第25-27页
  2.4.5 金属诱导a-Si:H制备多晶硅复合薄膜第27-28页
 2.5 本论文的研究目的与意义第28-29页
第三章 实验过程第29-41页
 3.1 实验设备第29-32页
  3.1.1 真空热蒸发实验设备第29-30页
  3.1.2 光导层复合薄膜沉积实验设备第30-31页
  3.1.3 旋涂镀膜设备第31-32页
 3.2 实验材料第32-33页
  3.2.1 薄膜制备用原材料第32-33页
  3.2.2 基板材料第33页
  3.2.3 其它实验材料第33页
 3.3 测试方法第33-37页
  3.3.1 膜厚测试第33页
  3.3.2 X射线衍射第33-34页
  3.3.3 扫描电镜(SEM)第34页
  3.3.4 高分辨透射电镜(HRTEM)第34-35页
  3.3.5 薄膜电导率测试第35-36页
  3.3.6 紫外可见光光谱测试(UV)第36页
  3.3.7 原子力显微镜(AFM)第36页
  3.3.8 反射透射比性能测试第36-37页
 3.4 液晶光阀的制备第37-41页
  3.4.1 基板的清洗第37页
  3.4.2 CdTe阻光膜的制备第37-38页
  3.4.3 ZnS/MgF_2介质镜的制备第38页
  3.4.4 Al/a-Si:H光导层复合薄膜的沉积第38-39页
  3.4.5 聚酰亚胺定向膜的制备第39页
  3.4.6 液晶光阀器件的制备第39-41页
第四章 非晶硅/纳米硅复合柱状结构光导层光电性能研究第41-55页
 4.1 柱状复合薄膜的结构与性能研究基础第41-48页
  4.1.1 柱状复合薄膜对光阀光导层分辨率的影响的理论分析第41-43页
  4.1.2 柱状复合光导膜的实验研究基础第43-48页
 4.2 光导层薄膜的光电性能研究第48-53页
 4.3 小结第53-55页
第五章 阻光层和介质镜层的制备工艺研究第55-72页
 5.1 阻光层的光学特性研究第55-57页
 5.2 ZnS/MgF_2复合膜的光学性能研究第57-65页
  5.2.1 ZnS/MgF_2复合膜的反射特性测试分析第57-59页
  5.2.2 ZnS/MgF_2复合膜的U-V光谱测试分析第59-65页
 5.3 ZnS/MgF2复合膜的结构性能分析第65-69页
  5.3.1 ZnS/MgF2复合膜的XRD测试第65-66页
  5.3.2 ZnS/MgF_2复合膜的原子力显微镜测试分析第66-68页
  5.3.3 ZnS/MgF_2复合膜的扫描电镜分析第68-69页
 5.4 实验中存在的问题及其解决第69-70页
 5.5 小结第70-72页
第六章 定向层和液晶层的制备工艺研究第72-82页
 6.1 聚酰亚胺涂覆工艺研究第72-73页
 6.2 聚酰亚胺薄膜的固化性能研究第73-77页
 6.3 聚酰亚胺薄膜摩擦性能研究第77-79页
 6.4 液晶层调制性能研究第79-80页
 6.5 小结第80-82页
第七章 液晶光阀器件制备及器件性能的测试第82-88页
 7.1 液晶光阀及测试系统第82-84页
 7.2 液晶光阀的输出特性测试第84-86页
 7.3 液晶光阀的分辨率及投射特性测试第86-87页
 7.4 小结第87-88页
第八章 结论第88-90页
参考文献第90-98页
已录用或已投稿论文第98-99页

论文共99页,点击 下载论文
上一篇:冲击磨料磨损机理研究
下一篇:Ni-P-纳米Al2O3复合镀层结构与性能研究