中文摘要 | 第1-4页 |
英文摘要 | 第4-8页 |
第一章 绪论 | 第8-16页 |
1-1 引言 | 第8-10页 |
1-2 PZN-PT的结构、性质及应用 | 第10-12页 |
一. 钙钛矿型铁电体 | 第10页 |
二. PZN-PT的结构 | 第10-11页 |
三. PZN-PT的性质 | 第11-12页 |
四. PZN-PT的应用 | 第12页 |
1-3 PZN-PT单晶的研究现状、存在问题与本文内容 | 第12-16页 |
一. PZN-PT的研究现状 | 第12-14页 |
二. 尚存在的问题及本文的研究内容 | 第14-16页 |
第二章 坩埚下降法的基本特点 | 第16-25页 |
2-1 熔体中生长晶体的一般特点 | 第16-17页 |
2-2 坩埚下降法的特点及其生长设备 | 第17-21页 |
一. 坩埚下降法的基本原理 | 第17-19页 |
二. 坩埚下降法的优点 | 第19页 |
三. 坩埚下降法的主要缺点 | 第19页 |
四. 生长设备及其基本原理 | 第19-21页 |
2-3 助熔剂的引入 | 第21-25页 |
一. 助熔剂选取的一般原则 | 第21-22页 |
二. 助熔剂PbO的物化特性 | 第22-25页 |
第三章 PZN-PT晶体的生长 | 第25-41页 |
3-1 温场与温度梯度的确定 | 第25-27页 |
一. 炉温 | 第25页 |
二. 温场的稳定性 | 第25-26页 |
三. 温度梯度 | 第26页 |
四. 测温装置 | 第26-27页 |
3-2 坩埚加工与处理 | 第27-29页 |
一. 坩埚的选择 | 第27页 |
二. 铂金的熔炼 | 第27-28页 |
三. 铂金坩埚的加工 | 第28页 |
四. 铂金坩埚的清洗和检漏 | 第28页 |
五. 铂金碎片的处理 | 第28页 |
六. 坩埚形状的设计 | 第28-29页 |
七. 坩埚厚度的调整 | 第29页 |
3-3 原料的制备 | 第29-31页 |
一. 原料的组成 | 第29-30页 |
二. 原料的预处理 | 第30-31页 |
3-4 助熔剂比例的调节 | 第31-33页 |
一. 助熔剂比例对晶体物相的影响 | 第31-32页 |
二. 助熔剂比例对生长过程的影响 | 第32-33页 |
3-5 晶体的生长率与坩埚的下降速率 | 第33-35页 |
3-6 PZN-PT晶体生长过程中的温度控制方案 | 第35-41页 |
一. 停降温度(T_(stop))与快速降温速率(C_f)的确立 | 第35-36页 |
二. 快速降温速率(C_f)的确定 | 第36页 |
三. 温度控制方案的调整 | 第36-40页 |
四. 生长后期回温的控制 | 第40-41页 |
第四章 晶体的表征 | 第41-50页 |
4-1 晶体实物 | 第41-42页 |
4-2 XRD物相分析 | 第42-44页 |
一. XRD物相分析的特点 | 第42页 |
二. 样品的制备与实验设备 | 第42-43页 |
三. 结果与讨论 | 第43-44页 |
4-2 劳埃照相 | 第44-46页 |
一. 劳埃照相的特点 | 第44页 |
二. 样品的制备与实验设备 | 第44-46页 |
三. 结果与讨论 | 第46页 |
4-4 电子探针显微分析 | 第46-50页 |
一. 电子探针显微分析的一般特点 | 第46-47页 |
二. 样品的制备与实验设备 | 第47页 |
三. 结果与讨论 | 第47-50页 |
结论与展望 | 第50-53页 |
参考文献 | 第53-55页 |
致谢 | 第55页 |