热氧化法制备氧化（亚）铜薄膜的微观结构及性能
| 提要 | 第1-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-25页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·纳米材料概述 | 第9-13页 |
| ·纳米材料的概念及内涵 | 第9-10页 |
| ·纳米材料的分类 | 第10-11页 |
| ·纳米材料的应用及前景展望 | 第11-13页 |
| ·纳米薄膜材料的制备方法 | 第13-18页 |
| ·电化学沉积法 | 第14-15页 |
| ·化学气相沉积法 | 第15-16页 |
| ·溅射法 | 第16页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第16-17页 |
| ·化学镀法 | 第17-18页 |
| ·纳米线及其制备技术 | 第18-23页 |
| ·模板法 | 第20-22页 |
| ·直接氧化法 | 第22-23页 |
| ·激光烧蚀法 | 第23页 |
| ·选题意义及研究内容 | 第23-25页 |
| 第二章 实验工艺及研究方法 | 第25-33页 |
| ·化学镀铜工艺 | 第25-30页 |
| ·基体材料 | 第25页 |
| ·实验设备 | 第25页 |
| ·镀液成分 | 第25-26页 |
| ·镀液作用 | 第26-27页 |
| ·添加剂的选择及作用 | 第27页 |
| ·化学镀铜的工艺流程 | 第27-30页 |
| ·化学镀铜的机理讨论 | 第30页 |
| ·铜纳米线制备工艺 | 第30-31页 |
| ·实验材料 | 第30-31页 |
| ·实验设备 | 第31页 |
| ·制备工艺 | 第31页 |
| ·铜及其氧化物薄膜的结构、形态及性能测定 | 第31-33页 |
| ·微观结构观察 | 第31页 |
| ·表面成分测定 | 第31页 |
| ·表面形貌观察 | 第31-32页 |
| ·铜膜厚度、结合强度的测量 | 第32页 |
| ·铜膜透光率的测量 | 第32页 |
| ·红外光谱的测量 | 第32-33页 |
| 第三章 玻璃表面化学镀纳米铜膜的微观结构表征 | 第33-43页 |
| ·前言 | 第33-34页 |
| ·X-射线衍射分析 | 第34-36页 |
| ·透射电子显微分析 | 第36-38页 |
| ·场发射扫描电子显微分析 | 第38-39页 |
| ·原子力显微分析 | 第39-41页 |
| ·铜膜-基体附着强度 | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第四章 热氧化法制备铜氧化物薄膜的性能研究 | 第43-55页 |
| ·前言 | 第43-44页 |
| ·影响铜氧化物薄膜性能的因素 | 第44-51页 |
| ·氧化温度的影响 | 第44-48页 |
| ·XRD图谱分析 | 第44-45页 |
| ·傅立叶变换红外光谱分析 | 第45页 |
| ·晶粒尺寸与氧化温度曲线分析 | 第45-47页 |
| ·FESEM表面形貌分析 | 第47-48页 |
| ·氧化时间的影响 | 第48-51页 |
| ·XRD图谱分析 | 第48-49页 |
| ·XPS表层氧化物分析 | 第49-50页 |
| ·FESEM表面形貌分析 | 第50-51页 |
| ·铜氧化物薄膜的光学性能 | 第51-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第五章 热氧化法制备氧化铜纳米线 | 第55-66页 |
| ·前言 | 第55-56页 |
| ·纳米线的生长机理 | 第56-57页 |
| ·工艺参数对CUO纳米线的影响 | 第57-64页 |
| ·氧化温度的影响 | 第57-58页 |
| ·氧化时间的影响 | 第58-60页 |
| ·薄膜厚度的影响 | 第60-64页 |
| ·光学性能 | 第64-65页 |
| ·本章小结 | 第65-66页 |
| 第六章 结论 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-76页 |
| 摘要 | 第76-79页 |
| Abstract | 第79-83页 |
| 致谢 | 第83-84页 |
| 导师及作者简介 | 第84页 |
