| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-21页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·微弧氧化技术简介 | 第9-14页 |
| ·微弧氧化技术的产生及其发展 | 第9-12页 |
| ·微弧氧化工艺过程描述 | 第12-13页 |
| ·微弧氧化技术及陶瓷膜层特点 | 第13页 |
| ·微弧氧化技术的应用领域 | 第13-14页 |
| ·铝合金微弧氧化技术的研究现状、课题研究背景及意义 | 第14-19页 |
| ·课题研究目标、主要研究的内容 | 第19-21页 |
| 第二章 研究方案和试验条件 | 第21-26页 |
| ·课题研究方案 | 第21-22页 |
| ·试验条件 | 第22-24页 |
| ·试验材料 | 第22页 |
| ·试验设备和仪器 | 第22-24页 |
| ·试验工艺方案 | 第24-26页 |
| 第三章 铸造铝合金微弧氧化工艺研究 | 第26-47页 |
| ·Si、Cu含量不同的铝合金在确定的磷酸盐体系溶液中微弧氧化 | 第26-32页 |
| ·Si、Cu元素对电流密度的影响 | 第26-28页 |
| ·Si、Cu元素对能耗的影响 | 第28-29页 |
| ·Si、Cu元素对陶瓷膜层生长速率的影响 | 第29-30页 |
| ·Si、Cu元素对微弧氧化电压的影响 | 第30-32页 |
| ·铸造铝合金微弧氧化电解液优化 | 第32-41页 |
| ·ZL108在不同溶液体系中微弧氧化工艺比较 | 第32-35页 |
| ·铸造铝合金微弧氧化基础溶液体系的确定 | 第35-36页 |
| ·柠檬酸钠和Na2EDTA对铸造铝合金微弧氧化的影响 | 第36-40页 |
| ·草酸铵和氨水对铸造铝合金微弧氧化的影响 | 第40-41页 |
| ·Si、Cu含量不同的铝合金在1.7#优化电解液中微弧氧化 | 第41-45页 |
| ·Si、Cu元素对微弧氧化电流密度的影响 | 第41-43页 |
| ·Si、Cu元素对微弧氧化能耗的影响 | 第43-44页 |
| ·Si、Cu元素对微弧氧化电压的影响 | 第44-45页 |
| ·Si、Cu含量不同的铝合金在1.10#优化电解液中微弧氧化 | 第45-46页 |
| ·Si、Cu元素对微弧氧化电流密度的影响 | 第45-46页 |
| ·Si、Cu元素对微弧氧化能耗的影响 | 第46页 |
| ·铸造铝合金微弧氧化优化电解液的确定 | 第46-47页 |
| 第四章 铸造铝合金微弧氧化陶瓷层分析 | 第47-56页 |
| ·微弧氧化陶瓷层的物相分析 | 第47-51页 |
| ·微弧氧化陶瓷膜表面形貌分析 | 第51-54页 |
| ·微弧氧化陶瓷膜截面形貌分析 | 第54-56页 |
| 第五章 结论 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-63页 |
| 致谢 | 第63页 |
