| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-10页 |
| 1 绪论 | 第10-30页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·薄膜的制备方法及研究背景 | 第11-14页 |
| ·薄膜制备物理方法(PVD)的比较及应用 | 第14-23页 |
| ·磁控溅射方法 | 第23-29页 |
| ·本课题的研究内容及意义 | 第29-30页 |
| 2 试验原理与方法 | 第30-37页 |
| ·试验流程 | 第30页 |
| ·试样制备及分析 | 第30-37页 |
| 3 TI膜的微观形貌及晶体结构分析 | 第37-53页 |
| ·试验方法 | 第37-38页 |
| ·溅射时间对Ti膜覆盖率的影响 | 第38-41页 |
| ·各工作参数对Ti膜厚度及微观结构的影响 | 第41-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 4 GD表面溅射TI膜性能研究 | 第53-73页 |
| ·Ti膜与Gd的结合性能测试 | 第53-56页 |
| ·绝热温变测试 | 第56-59页 |
| ·电化学腐蚀性能研究 | 第59-66页 |
| ·水腐蚀性能研究 | 第66-72页 |
| ·本章小结 | 第72-73页 |
| 5 结论 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-79页 |
| 在读期间科研成果简介 | 第79-82页 |
| 致谢 | 第82页 |