| 中文摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第1章绪论 | 第9-28页 |
| 1.1引言 | 第9页 |
| 1.2光电催化技术及光电催化发展现状 | 第9-14页 |
| 1.2.1光电催化反应的基本原理 | 第9-10页 |
| 1.2.2光电化学分解水反应的基本原理 | 第10-12页 |
| 1.2.3光电催化降解反应的基本原理 | 第12-13页 |
| 1.2.4影响光电催化性能的基本因素 | 第13-14页 |
| 1.3提高光电催化性能的途径 | 第14-16页 |
| 1.3.1增强光吸收的策略 | 第14-15页 |
| 1.3.2改进电荷分离的策略 | 第15页 |
| 1.3.3增强表面电荷注入的策略 | 第15-16页 |
| 1.4锌基和铋基半导体光电催化剂 | 第16-26页 |
| 1.4.1ZnO的简介及相关研究进展 | 第16-21页 |
| 1.4.2ZnFe2O4的简介及相关研究进展 | 第21-22页 |
| 1.4.3Bi2WO6的简介及相关研究进展 | 第22-24页 |
| 1.4.4Bi2S3的简介及相关研究进展 | 第24-26页 |
| 1.5论文的选题背景和研究意义 | 第26-27页 |
| 1.6论文的主要研究内容 | 第27-28页 |
| 第2章实验材料及表征方法 | 第28-33页 |
| 2.1实验原料和试剂 | 第28-29页 |
| 2.2实验仪器及设备 | 第29页 |
| 2.3表征方法及原理 | 第29-31页 |
| 2.3.1扫描电子显微镜（SEM） | 第29-30页 |
| 2.3.2透射电子显微镜（TEM） | 第30页 |
| 2.3.3广角X射线粉末衍射分析（XRD） | 第30页 |
| 2.3.4紫外可见漫反射（UV-DRS） | 第30页 |
| 2.3.5X射线光电子能谱（XPS） | 第30页 |
| 2.3.6线性循环伏安（LSV） | 第30页 |
| 2.3.7瞬态光电流（TPC） | 第30-31页 |
| 2.3.8电化学阻抗（EIS） | 第31页 |
| 2.3.9莫特肖特基（MS） | 第31页 |
| 2.3.10入射光子电流转换效率（IPCE） | 第31页 |
| 2.4性能测试 | 第31-33页 |
| 2.4.1光电化学分解水性能测试 | 第31页 |
| 2.4.2光电催化降解性能测试 | 第31-33页 |
| 第3章ZnO/ZnFe2O4/PbS薄膜三元分级结构可见光电催化剂的制备 | 第33-49页 |
| 3.1引言 | 第33-34页 |
| 3.2实验部分 | 第34-36页 |
| 3.2.1ZnO纳米棒阵列薄膜的制备 | 第34-35页 |
| 3.2.2ZnO/ZnFe2O4复合薄膜的制备 | 第35页 |
| 3.2.3ZnO/ZnFe2O4/PbS复合薄膜的制备 | 第35-36页 |
| 3.2.4ZnO/ZnFe2O4/PbS光电化学分解水性能测试 | 第36页 |
| 3.3结果与讨论 | 第36-47页 |
| 3.3.1薄膜形貌和结构表征 | 第36-41页 |
| 3.3.2薄膜光学吸收特性 | 第41-42页 |
| 3.3.3光电化学分解水性能研究 | 第42-46页 |
| 3.3.4光电化学分解水机理研究 | 第46-47页 |
| 3.4本章小结 | 第47-49页 |
| 第4章Bi2WO6/Bi2S3薄膜分级结构可见光电催化剂的制备 | 第49-66页 |
| 4.1引言 | 第49-50页 |
| 4.2实验部分 | 第50-51页 |
| 4.2.1Bi2WO6薄膜的制备 | 第50页 |
| 4.2.2Bi2WO6/Bi2S3薄膜的制备 | 第50-51页 |
| 4.2.3Bi2WO6/Bi2S3薄膜光电催化降解性能测试 | 第51页 |
| 4.3结果与讨论 | 第51-65页 |
| 4.3.1薄膜形貌和结构表征 | 第51-56页 |
| 4.3.2薄膜光学吸收特性 | 第56-57页 |
| 4.3.3电化学性能测试 | 第57-59页 |
| 4.3.4光电化学催化降解性能测试 | 第59-64页 |
| 4.3.5光电催化降解机理研究 | 第64-65页 |
| 4.4本章小结 | 第65-66页 |
| 结论 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第82-83页 |
