| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-11页 |
| 第1章 引言 | 第11-15页 |
| 第2章 物理和技术背景 | 第15-47页 |
| ·ZnO:Al薄膜的各种属性 | 第15-25页 |
| ·晶粒结构 | 第15-16页 |
| ·电学特性 | 第16-19页 |
| ·光学特性 | 第19-25页 |
| ·ZnO:Al薄膜的制备 | 第25-37页 |
| ·磁控溅射过程 | 第26-27页 |
| ·沉积速率 | 第27-30页 |
| ·ZnO:Al薄膜的反应溅射沉积 | 第30-37页 |
| ·ZnO:Al的生长 | 第37-42页 |
| ·刻蚀行为 | 第42-43页 |
| ·ZnO:Al薄膜作为前电极在太阳能电池中的应用 | 第43-47页 |
| 第3章 实验和表征方法 | 第47-59页 |
| ·制备ZnO:Al薄膜的磁控溅射系统 | 第47-49页 |
| ·湿法化学刻蚀 | 第49-50页 |
| ·表征 | 第50-59页 |
| ·厚度测量 | 第50页 |
| ·电学特性表征 | 第50-52页 |
| ·光学特性测试 | 第52-53页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第53-54页 |
| ·扫描电镜(SEM) | 第54-55页 |
| ·X射线衍射谱(XRD) | 第55-56页 |
| ·二次离子质谱(SIMS) | 第56页 |
| ·太阳能电池测试 | 第56-59页 |
| 第4章 磁控溅射双旋转陶瓷靶制备ZnO:Al薄膜 | 第59-115页 |
| ·衬底温度对ZnO:Al薄膜材料属性的影响 | 第59-72页 |
| ·沉积速率 | 第60-61页 |
| ·电学特性 | 第61-64页 |
| ·化学性质 | 第64-65页 |
| ·晶体结构 | 第65-66页 |
| ·表面形貌和刻蚀行为 | 第66-69页 |
| ·光学特性 | 第69-72页 |
| ·工作气压对ZnO:Al薄膜材料属性的影响 | 第72-81页 |
| ·沉积速率 | 第72-73页 |
| ·电学特性 | 第73-76页 |
| ·晶粒结构 | 第76-77页 |
| ·表面形貌和刻蚀行为 | 第77-80页 |
| ·光学特性 | 第80-81页 |
| ·氩气流量(氩气分压)对ZnO:Al薄膜材料属性的影响 | 第81-84页 |
| ·电学特性 | 第82-83页 |
| ·表面结构 | 第83页 |
| ·光学特性 | 第83-84页 |
| ·氧气流量对高速沉积的ZnO:Al薄膜的各种属性的影响 | 第84-91页 |
| ·电学特性 | 第85页 |
| ·表面形貌和刻蚀行为 | 第85-88页 |
| ·光学特性 | 第88-90页 |
| ·讨论 | 第90-91页 |
| ·刻蚀时间对ZnO:Al薄膜属性的影响 | 第91-96页 |
| ·厚度变化和电学特性 | 第91-92页 |
| ·表面形貌变化 | 第92-93页 |
| ·光学特性 | 第93-95页 |
| ·讨论 | 第95-96页 |
| ·均匀性研究 | 第96-99页 |
| ·低速沉积的ZnO:Al(LR-AZO)薄膜的均匀性研究 | 第96-97页 |
| ·高速沉积的ZnO:Al(HR-AZO)薄膜的均匀性研究 | 第97-99页 |
| ·讨论 | 第99页 |
| ·内部磁场方向对ZnO:Al薄膜各种属性的影响 | 第99-107页 |
| ·沉积速率 | 第101-102页 |
| ·电学特性 | 第102-104页 |
| ·刻蚀行为和表面形貌 | 第104-106页 |
| ·讨论 | 第106-107页 |
| ·太阳能电池应用 | 第107-112页 |
| ·不同工作气压下沉积的LR-AZO薄膜和HR-AZO薄膜在硅薄膜太阳能电池中的应用 | 第107-110页 |
| ·氩气流量对太阳能电池的影响 | 第110-112页 |
| ·本章讨论和总结 | 第112-115页 |
| 第5章 反应磁控溅射双旋转金属靶制备ZnO:Al薄膜 | 第115-151页 |
| ·等离子发射监控强度影响 | 第116-131页 |
| ·沉积速率和厚度 | 第119-121页 |
| ·电学特性 | 第121-123页 |
| ·化学性质 | 第123-125页 |
| ·刻蚀行为和表面形貌 | 第125-128页 |
| ·光学特性 | 第128-131页 |
| ·工作气压对反应溅射的ZnO:Al薄膜各种属性的影响 | 第131-137页 |
| ·沉积速率 | 第131-132页 |
| ·电学特性 | 第132-134页 |
| ·刻蚀行为和表面结构 | 第134-135页 |
| ·光学特性 | 第135-137页 |
| ·衬底温度对反应溅射的ZnO:Al薄膜各种属性的影响 | 第137-147页 |
| ·沉积速率和电学特性 | 第137-140页 |
| ·刻蚀行为和表面形貌 | 第140-143页 |
| ·光学特性 | 第143-146页 |
| ·本节讨论 | 第146页 |
| ·小节 | 第146-147页 |
| ·本章讨论和总结 | 第147-151页 |
| 第6章 用于硅薄膜太阳能电池的高速沉积的ZnO:Al薄膜的新型刻蚀方法 | 第151-175页 |
| ·高速沉积的ZnO:Al薄膜的HF和HCl刻蚀研究 | 第152-164页 |
| ·HF刻蚀和HCl刻蚀比较 | 第152-155页 |
| ·高速沉积的薄膜在HF中不同刻蚀时间的刻蚀研究 | 第155-158页 |
| ·HF刻蚀和HCl刻蚀相结合的新的刻蚀方法 | 第158-163页 |
| ·小节 | 第163-164页 |
| ·新型刻蚀方法应用于反应磁控溅射高速沉积的ZnO:Al薄膜及其相应的硅薄膜太阳能电池应用 | 第164-173页 |
| ·厚度、面电阻和粗糙度变化 | 第164-165页 |
| ·刻蚀行为和表面形貌 | 第165-166页 |
| ·光学特性 | 第166-168页 |
| ·太阳能电池应用 | 第168-170页 |
| ·讨论 | 第170-172页 |
| ·小节 | 第172-173页 |
| ·本章总结 | 第173-175页 |
| 第7章 总结和展望 | 第175-179页 |
| 附录A | 第179-183页 |
| 附录B | 第183-189页 |
| 参考文献 | 第189-199页 |
| 论文发表 | 第199-203页 |
| 致谢 | 第203-204页 |
