| 中文摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第11-22页 |
| 1.1 硅酸盐体系长余辉发光材料的研究现状 | 第11-19页 |
| 1.1.1 硅酸盐体系长余辉发光材料的制备技术 | 第11-14页 |
| 1.1.2 硅酸盐体系长余辉发光材料的掺杂研究 | 第14-16页 |
| 1.1.3 硅酸盐体系长余辉发光材料的发光机理 | 第16-19页 |
| 1.2 硅酸盐体系长余辉发光材料在发光陶瓷釉中的应用 | 第19-21页 |
| 1.2.1 发光陶瓷釉的定义及分类 | 第19-20页 |
| 1.2.2 发光陶瓷釉的制备方法 | 第20页 |
| 1.2.3 硅酸盐体系长余辉发光材料在陶瓷釉料中的应用现状 | 第20-21页 |
| 1.3 本课题的的研究意义、目标和内容 | 第21-22页 |
| 第2章 实验试剂、仪器及测试方法 | 第22-28页 |
| 2.1 长余辉发光材料实验试剂与仪器 | 第22-23页 |
| 2.1.1 长余辉发光材料实验试剂 | 第22-23页 |
| 2.1.2 长余辉发光材料实验仪器 | 第23页 |
| 2.2 还原气氛 | 第23-24页 |
| 2.3 长余辉发光材料性能表征 | 第24-26页 |
| 2.3.1 晶体结构 | 第24页 |
| 2.3.2 表面形貌 | 第24页 |
| 2.3.3 激发光谱、发射光谱 | 第24-25页 |
| 2.3.4 余辉衰减曲线 | 第25页 |
| 2.3.5 热释光曲线 | 第25-26页 |
| 2.4 发光陶瓷釉实验试剂与仪器 | 第26-27页 |
| 2.4.1 发光陶瓷釉实验试剂 | 第26页 |
| 2.4.2 陶瓷发光釉实验仪器 | 第26-27页 |
| 2.5 发光陶瓷釉性能表征 | 第27-28页 |
| 第3章 Sr_2MgSi_2O_7:Eu~(2+),Dy~(3+)长余辉发光材料的制备及发光性能研究 | 第28-40页 |
| 3.1 引言 | 第28页 |
| 3.2 高温固相法制备Sr_2MgSi_2O_7:Eu~(2+),Dy~(3+)长余辉发光材料 | 第28-31页 |
| 3.2.1 实验原料 | 第28页 |
| 3.2.2 实验步骤 | 第28-29页 |
| 3.2.3 烧结温度对Sr_2MgSi_2O_7:Eu~(2+),Dy~(3+)长余辉发光材料余辉性能的影响 | 第29-30页 |
| 3.2.4 硼酸浓度对Sr_2MgSi_2O_7:Eu~(2+),Dy~(3+)长余辉发光材料余辉性能的影响 | 第30-31页 |
| 3.3 化学沉淀法制备Sr_2MgSi_2O_7:Eu~(2+),Dy~(3+)长余辉发光材料 | 第31-33页 |
| 3.3.1 实验原料 | 第31页 |
| 3.3.2 实验步骤 | 第31-32页 |
| 3.3.3 烧结温度对Sr_2MgSi_2O_7:Eu~(2+),Dy~(3+)长余辉发光材料余辉性能的影响 | 第32-33页 |
| 3.4 高温固相法与化学沉淀法比较 | 第33-37页 |
| 3.4.1 制备工艺对比分析 | 第33-34页 |
| 3.4.2 晶体结构和表面形貌对比分析 | 第34-35页 |
| 3.4.3 激发光谱和发射光谱对比分析 | 第35页 |
| 3.4.4 余辉衰减曲线对比分析 | 第35-36页 |
| 3.4.5 热释光曲线对比分析 | 第36-37页 |
| 3.5 Sr_2MgSi_2O_7:Eu~(2+),Dy~(3+)长余辉发光材料的发光机理 | 第37-39页 |
| 3.6 本章小结 | 第39-40页 |
| 第4章 Sr_2MgSi_2O_7:Eu~(2+),Dy~(3+),R+(R+=Li~+,Ag~+)长余辉发光材料的制备及发光性能研究 | 第40-60页 |
| 4.1 引言 | 第40页 |
| 4.2 Sr_2MgSi_2O_7:Eu~(2+),Dy~(3+),R+(R+=Li~+,Ag~+)长余辉发光材料的制备 | 第40-42页 |
| 4.2.1 实验原料 | 第40-41页 |
| 4.2.2 实验步骤 | 第41-42页 |
| 4.3 Li~+离子掺杂对Sr_2MgSi_2O_7:Eu~(2+),Dy~(3+)长余辉发光材料性能的影响 | 第42-47页 |
| 4.3.1 晶体结构与表面形貌分析 | 第42页 |
| 4.3.2 激发光谱和发射光谱分析 | 第42-44页 |
| 4.3.3 余辉衰减曲线分析 | 第44-45页 |
| 4.3.4 热释光曲线分析 | 第45-47页 |
| 4.4 Ag~+离子掺杂对Sr_2MgSi_2O_7:Eu~(2+),Dy~(3+)长余辉发光材料性能的影响.. | 第47-51页 |
| 4.4.1 晶体结构与表面形貌分析 | 第47-48页 |
| 4.4.2 激发光谱和发射光谱分析 | 第48页 |
| 4.4.3 余辉衰减曲线分析 | 第48-49页 |
| 4.4.4 热释光曲线分析 | 第49-51页 |
| 4.5 Li~+,Ag~+离子分别掺杂对Sr_2MgSi_2O_7:Eu~(2+),Dy~(3+)长余辉发光材料性能影响的比较 | 第51-54页 |
| 4.5.1 晶体结构与表面形貌对比分析 | 第51页 |
| 4.5.2 激发光谱和发射光谱对比分析 | 第51-52页 |
| 4.5.3 余辉衰减曲线对比分析 | 第52-53页 |
| 4.5.4 热释光曲线对比分析 | 第53-54页 |
| 4.6 正交实验优化Li~+离子掺杂Sr_2MgSi_2O_7:Eu~(2+),Dy~(3+)长余辉发光材料的合成工艺 | 第54-58页 |
| 4.6.1 正交实验原理 | 第54-56页 |
| 4.6.2 正交实验设计及实验结果 | 第56页 |
| 4.6.3 正交实验结果分析 | 第56-58页 |
| 4.7 本章小结 | 第58-60页 |
| 第5章 Sr_2MgSi_2O_7:Eu~(2+),Dy~(3+)长余辉发光材料在陶瓷釉料中的应用 | 第60-82页 |
| 5.1 引言 | 第60页 |
| 5.2 微波法制备发光陶瓷釉 | 第60-62页 |
| 5.2.1 实验原料 | 第60页 |
| 5.2.2 坯体制备 | 第60-61页 |
| 5.2.3 熔块制备 | 第61页 |
| 5.2.4 发光陶瓷釉制备 | 第61-62页 |
| 5.3 基础釉的选择 | 第62-64页 |
| 5.3.1 基础釉的选择要求 | 第62-63页 |
| 5.3.2 基础釉的选择 | 第63-64页 |
| 5.4 工艺条件对中低温发光陶瓷釉性能的影响 | 第64-72页 |
| 5.4.1 微波烧结温度对中低温发光陶瓷釉性能的影响 | 第64-67页 |
| 5.4.2 微波保温时间对中低温发光陶瓷釉性能的影响 | 第67-70页 |
| 5.4.3 发光粉含量对中低温发光陶瓷釉性能的影响 | 第70-72页 |
| 5.5 工艺条件对中高温发光陶瓷釉性能的影响 | 第72-81页 |
| 5.5.1 微波烧结温度对中高温发光陶瓷釉性能的影响 | 第73-76页 |
| 5.5.2 微波保温时间对中高温发光陶瓷釉性能的影响 | 第76-79页 |
| 5.5.3 发光粉含量对中高温发光陶瓷釉性能的影响 | 第79-81页 |
| 5.6 本章小结 | 第81-82页 |
| 第6章 结论 | 第82-84页 |
| 致谢 | 第84-85页 |
| 参考文献 | 第85-90页 |
| 攻读硕士学位期间发表和接收的论文 | 第90页 |
