| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第9-30页 |
| 1.1 四硫富瓦烯化合物的简介 | 第9-10页 |
| 1.2 基于二硫富瓦烯体系的功能分子的研究进展 | 第10-19页 |
| 1.3 二硫富瓦烯衍生物C(sp~2)-H键的活化反应 | 第19-26页 |
| 1.3.1 C(sp~2)-C键的构筑合成多功能化的插烯式四硫富瓦烯衍生物 | 第19-25页 |
| 1.3.2 C(sp~2)-C键的构筑合成其他二硫富瓦烯衍生物 | 第25-26页 |
| 1.4 通过活化C(sp~2)-H键构筑C(sp~2)-S键的反应 | 第26-28页 |
| 1.5 本论文的选题背景与意义 | 第28-30页 |
| 第二章 合成插烯式四硫富瓦烯衍生物的新方法、结构表征与性质研究 | 第30-47页 |
| 2.1 引言 | 第30-31页 |
| 2.2 实验部分 | 第31-37页 |
| 2.2.1 主要的仪器和试剂 | 第31-32页 |
| 2.2.2 底物合成 | 第32-33页 |
| 2.2.3 条件优化 | 第33-34页 |
| 2.2.4 底物扩展 | 第34-35页 |
| 2.2.5 可能的反应机理 | 第35-37页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第37-41页 |
| 2.3.1 化合物4a的晶体结构分析 | 第37-41页 |
| 2.3.2 化合物4a的其它表征数据 | 第41页 |
| 2.4 性质测试 | 第41-46页 |
| 2.4.1 紫外-可见光谱性质研究 | 第41-43页 |
| 2.4.2 电化学性质研究 | 第43-46页 |
| 2.5 本章小结 | 第46-47页 |
| 第三章 含噻唑官能团的二硫富瓦烯类衍生物的设计合成及其结构表征 | 第47-97页 |
| 3.1 引言 | 第47-48页 |
| 3.2 实验部分 | 第48-55页 |
| 3.2.1 主要的仪器和试剂 | 第48-49页 |
| 3.2.2 底物合成 | 第49-50页 |
| 3.2.3 条件优化 | 第50-53页 |
| 3.2.4 底物扩展 | 第53-55页 |
| 3.3 数据表征 | 第55-83页 |
| 3.3.1 单晶数据 | 第55-76页 |
| 3.3.2 产物数据表征 | 第76-83页 |
| 3.4 性质测试 | 第83-96页 |
| 3.4.1 紫外-可见光谱性质研究 | 第83-92页 |
| 3.4.2 电化学性质研究 | 第92-96页 |
| 3.5 本章小结 | 第96-97页 |
| 第四章 结论与展望 | 第97-98页 |
| 参考文献 | 第98-105页 |
| 附录 | 第105-128页 |
| 致谢 | 第128-129页 |
| 在学期间发表的学术论文 | 第129页 |
