| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-16页 |
| 1.1 课题的研究背景 | 第10-11页 |
| 1.2 高频脉冲微细电火花加工国内外研究现状 | 第11-14页 |
| 1.2.1 高频脉冲下电极集肤效应国内外研究现状 | 第11-12页 |
| 1.2.2 放电通道演化过程国内外研究现状 | 第12-14页 |
| 1.3 课题的研究意义及内容 | 第14-16页 |
| 1.3.1 课题的研究意义 | 第14页 |
| 1.3.2 课题的研究内容 | 第14-16页 |
| 第二章 集肤效应影响下放电过程分析与建模 | 第16-27页 |
| 2.1 高频脉冲电火花加工中电极的集肤效应 | 第16-19页 |
| 2.1.1 电极集肤效应原理 | 第16-18页 |
| 2.1.2 电极的集肤效应对放电能量分布的影响 | 第18-19页 |
| 2.2 高频脉冲电火花加工数学模型 | 第19-21页 |
| 2.2.1 工具电极内电磁场 | 第19-20页 |
| 2.2.2 工件感应电流和电动势 | 第20-21页 |
| 2.3 集肤效应影响下放电过程模型的建立 | 第21-26页 |
| 2.3.1 仿真模型的建立与加载 | 第21-23页 |
| 2.3.2 电参数和材料的选取 | 第23-24页 |
| 2.3.3 模型的验证 | 第24-26页 |
| 本章小结 | 第26-27页 |
| 第三章 高频脉冲作用下放电过程能量分布仿真分析 | 第27-51页 |
| 3.1 电参数对电极集肤效应的影响 | 第27-34页 |
| 3.1.1 脉冲频率对集肤效应的影响 | 第28-30页 |
| 3.1.2 电流对集肤效应的影响 | 第30-32页 |
| 3.1.3 磁导率对集肤效应的影响 | 第32-34页 |
| 3.2 集肤效应影响下工件形貌表面电流密度分布规律 | 第34-40页 |
| 3.2.1 未加工出孔时工件形貌表面电流密度分布 | 第34-36页 |
| 3.2.2 孔深0.4mm时工件形貌表面电流密度分布 | 第36-38页 |
| 3.2.3 孔深0.8mm时工件形貌表面电流密度分布 | 第38-40页 |
| 3.3 集肤效应影响下电极端面与工件孔底表面放电概率计算 | 第40-47页 |
| 3.3.1 拟合电场强度曲线步骤 | 第40-41页 |
| 3.3.2 电场强度拟合函数与项数的选择 | 第41-43页 |
| 3.3.3 电极端面放电概率计算 | 第43-46页 |
| 3.3.4 不同深度孔的孔底表面放电概率计算 | 第46-47页 |
| 3.4 实际加工中总的放电概率计算 | 第47-50页 |
| 本章小结 | 第50-51页 |
| 第四章 高频脉冲对放电通道影响的分析与建模 | 第51-60页 |
| 4.1 高频脉冲对放电通道的影响 | 第51-53页 |
| 4.1.1 放电通道形成过程分析 | 第51-52页 |
| 4.1.2 放电通道磁力箍缩效应特性分析 | 第52-53页 |
| 4.2 磁力箍缩效应数学模型 | 第53-56页 |
| 4.2.1 放电通道自身磁场 | 第53-55页 |
| 4.2.2 电子在放电通道自身磁场中的运动 | 第55-56页 |
| 4.3 放电通道磁力箍缩效应模型的建立 | 第56-59页 |
| 4.3.1 放电通道几何模型 | 第56-57页 |
| 4.3.2 多物理场耦合仿真边界设置及求解设置 | 第57-59页 |
| 本章小结 | 第59-60页 |
| 第五章 高频脉冲作用下放电通道粒子运动的仿真分析 | 第60-75页 |
| 5.1 仿真条件 | 第60-61页 |
| 5.2 放电通道电子束磁力箍缩效应分析 | 第61-65页 |
| 5.2.1 放电通道内部磁场分布形式 | 第61-62页 |
| 5.2.2 放电通道内电子所受洛伦兹力 | 第62-64页 |
| 5.2.3 放电通道电子束磁力箍缩现象 | 第64-65页 |
| 5.3 加工参数对电子束磁力箍缩效应的影响 | 第65-70页 |
| 5.3.1 脉冲频率对电子束磁力箍缩的影响 | 第65-67页 |
| 5.3.2 峰值电流对电子束磁力箍缩的影响 | 第67-68页 |
| 5.3.3 介质电导率对电子束磁力箍缩的影响 | 第68-70页 |
| 5.4 磁力箍缩效应对放电通道热流密度的影响 | 第70-74页 |
| 本章小结 | 第74-75页 |
| 第六章 结论与展望 | 第75-77页 |
| 6.1 结论 | 第75页 |
| 6.2 展望 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-79页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第79-80页 |
| 致谢 | 第80页 |
