| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 符号说明 | 第15-17页 |
| 第一章 绪论 | 第17-31页 |
| 1.1 聚合物基纳米复合材料的制备和应用 | 第17-25页 |
| 1.1.1 聚合物基纳米复合材料的发展 | 第17-18页 |
| 1.1.2 聚合物基光学薄膜的应用 | 第18-19页 |
| 1.1.3 聚合物基光学薄膜的研究进展 | 第19-23页 |
| 1.1.4 新型微纳多层光学膜制备技术 | 第23-25页 |
| 1.2 计算机模拟技术 | 第25-27页 |
| 1.2.1 分子模拟在高聚物分析中的应用 | 第25页 |
| 1.2.2 本文涉及到的分子模拟软件 | 第25-27页 |
| 1.3 研究目的和意义 | 第27-28页 |
| 1.4 主要研究内容 | 第28-29页 |
| 1.5 本课题创新之处 | 第29-31页 |
| 第二章 纳米粒子在高聚物中分散性的分子动力学模拟 | 第31-39页 |
| 2.1 引言 | 第31-32页 |
| 2.2 模型和模拟细节 | 第32-34页 |
| 2.2.1 模型 | 第32-33页 |
| 2.2.2 模拟细节 | 第33-34页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第34-38页 |
| 2.3.1 薄膜空间限制作用对纳米粒子分散性的影响 | 第34-35页 |
| 2.3.2 挤压作用对纳米粒子分散性的影响 | 第35-36页 |
| 2.3.3 薄膜体系变形速率对纳米粒子分散性的影响 | 第36-38页 |
| 2.4 本章小结 | 第38-39页 |
| 第三章 纳米粒子对聚合物力学性能和界面结合情况影响的分子动力学模拟 | 第39-51页 |
| 3.1 引言 | 第39页 |
| 3.2 模型与模拟方法 | 第39-49页 |
| 3.2.1 改性纳米二氧化硅模型 | 第39-41页 |
| 3.2.2 PMMA薄膜模型 | 第41-42页 |
| 3.2.3 纳米Si_O2/PMMA模拟盒子 | 第42-43页 |
| 3.2.4 模拟方法 | 第43-49页 |
| 3.3 本章小结 | 第49-51页 |
| 第四章 纳米-SiO_2/PMMA多层高反射复合材料的制备和性能研究 | 第51-65页 |
| 4.1 引言 | 第51页 |
| 4.2 实验 | 第51-55页 |
| 4.2.1 实验原料 | 第51页 |
| 4.2.2 实验设备及仪器 | 第51-53页 |
| 4.2.3 制备过程 | 第53-54页 |
| 4.2.4 测试与表征 | 第54-55页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第55-63页 |
| 4.3.1 偶联剂含量对相容性的影响 | 第55-57页 |
| 4.3.2 偶联剂的作用原理 | 第57-58页 |
| 4.3.3 纳米二氧化硅在单层和多层聚甲基丙烯酸甲酯基体中的分散性 | 第58-60页 |
| 4.3.4 纳米二氧化硅的含量对复合材料力学性能的影响 | 第60-62页 |
| 4.3.5 纳米二氧化硅的含量对复合材料反射率的影响 | 第62-63页 |
| 4.4 本章小结 | 第63-65页 |
| 第五章 纳米-TiO_2/PMMA高紫外吸光复合材料的制备和性能研究 | 第65-73页 |
| 5.1 引言 | 第65页 |
| 5.2 实验 | 第65-68页 |
| 5.2.1 实验原料 | 第65页 |
| 5.2.2 实验设备及仪器 | 第65-66页 |
| 5.2.3 制备过程 | 第66-67页 |
| 5.2.4 测试与表征 | 第67-68页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第68-72页 |
| 5.3.1 纳米二氧化钛在单层和多层聚甲基丙烯酸甲酯基体中的分散性 | 第68-69页 |
| 5.3.2 纳米二氧化钛含量对复合材料光学性能的影响 | 第69-71页 |
| 5.3.3 纳米二氧化钛含量对复合材料热稳定性的影响 | 第71-72页 |
| 5.4 本章小结 | 第72-73页 |
| 第六章 总结与展望 | 第73-77页 |
| 6.1 课题工作总结 | 第73-74页 |
| 6.2 研究工作展望 | 第74-77页 |
| 参考文献 | 第77-85页 |
| 致谢 | 第85-87页 |
| 研究成果及发表的学术论文 | 第87-89页 |
| 作者及导师简介 | 第89-90页 |
| 附表 | 第90-91页 |
