| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第1章 绪论 | 第13-23页 |
| 1.1 研究背景 | 第13-17页 |
| 1.2 石墨烯薄膜产业化现状 | 第17-18页 |
| 1.3 化学气相沉积(CVD)石墨烯研究现状 | 第18-21页 |
| 1.4 本研究的主要内容 | 第21页 |
| 1.5 本章小结 | 第21-23页 |
| 第2章 研究方法与手段 | 第23-30页 |
| 2.1 化学气相沉积(CVD)石墨烯 | 第23页 |
| 2.2 形貌表征 | 第23-25页 |
| 2.3 微观结构表征 | 第25-27页 |
| 2.4 石墨烯器件制备工艺 | 第27页 |
| 2.5 电学性质表征 | 第27-29页 |
| 2.6 本章小结 | 第29-30页 |
| 第3章 单晶石墨烯制备及湿法转移 | 第30-43页 |
| 3.1 化学气相沉积(CVD)生长石墨烯薄膜 | 第30-35页 |
| 3.2 不同生长时间下单晶石墨烯制备 | 第35-36页 |
| 3.3 不同生长气压下单晶石墨烯制备 | 第36-37页 |
| 3.4 不同基底位置处单晶石墨烯制备 | 第37页 |
| 3.5 单晶石墨烯薄膜制备 | 第37-38页 |
| 3.6 单晶石墨烯薄膜湿法转移工艺 | 第38-40页 |
| 3.7 单晶石墨烯多层结构分析 | 第40-42页 |
| 3.8 本章小结 | 第42-43页 |
| 第4章 单晶石墨烯薄膜电学表征 | 第43-50页 |
| 4.1 石墨烯器件制备工艺 | 第43-44页 |
| 4.2 石墨烯霍尔器件电学测量 | 第44-45页 |
| 4.3 石墨烯背栅场效应晶体管电学测量 | 第45-47页 |
| 4.4 石墨烯背栅场效应管变温电学测量 | 第47-49页 |
| 4.5 本章小结 | 第49-50页 |
| 第5章 不同尺寸石墨烯条带电学及光电特性 | 第50-61页 |
| 5.1 不同尺寸石墨烯条带电学特性 | 第50-55页 |
| 5.2 不同尺寸石墨烯条带/本征硅复合结构光电响应 | 第55-59页 |
| 5.2.1 光电响应及石墨烯光学性质 | 第55-56页 |
| 5.2.2 石墨烯光电探测器 | 第56-57页 |
| 5.2.3 不同尺寸单晶石墨烯条带的光电特性研究 | 第57-58页 |
| 5.2.4 不同尺寸多晶石墨烯条带的光电特性研究 | 第58-59页 |
| 5.3 本章小结 | 第59-61页 |
| 第6章 总结与展望 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-69页 |
| 致谢 | 第69-71页 |
| 作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第71页 |