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Ni(111)表面的Ni2Fe覆盖层上甲烷干气重整的DFT研究

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
第一章 引言第11-19页
    1.1 背景介绍第11-12页
    1.2 甲烷和二氧化碳的利用第12-14页
        1.2.1 甲烷干气重整的发展进程第13-14页
    1.3 甲烷干气重整催化剂的研究第14-16页
        1.3.1 活性组分第14-15页
        1.3.2 载体第15页
        1.3.3 助剂第15-16页
        1.3.4 制备方法第16页
    1.4 甲烷干气重整所存在的问题第16-17页
    1.5 甲烷干气重整的机理第17-18页
    1.6 本文的依据和内容第18-19页
第二章 理论基础和计算方法第19-26页
    2.1 量子力学基础理论第19-20页
        2.1.1 薛定谔方程(Schrodingerequation)第19页
        2.1.2 Born-Oppenheimer近似第19-20页
        2.1.3 单电子近似第20页
    2.2 密度泛函理论第20-21页
        2.2.1 Hohenberg–Kohn定理第20页
        2.2.2 Kohn-Sham方程(有效单电子近似)第20-21页
    2.3 交换相关能泛函第21-23页
    2.4 布里渊区(Brillouinzone)k点的选择第23页
    2.5 贋势理论第23-24页
    2.6 周期性超胞模型第24页
    2.7 表征催化反应的主要物理量第24-26页
        2.7.1 吸附第24页
        2.7.2 覆盖度第24页
        2.7.3 过渡态第24-26页
第三章 Ni_2Fe(111)覆盖层上甲烷干气重整的DFT研究第26-40页
    3.1 引言第26-27页
    3.2 计算方法第27-28页
    3.3 结果与讨论第28-36页
        3.3.1 甲烷脱氢的机制第28-30页
            3.3.1.1 CH_x物种在Ni_2Fe(111)表面上的吸附第29页
            3.3.1.2 CH_x(x=1-4)的解离第29-30页
        3.3.2 CO_2的解离机制第30-32页
            3.3.2.1 CO_2的直接解离第30-31页
            3.3.2.2 H诱导CO_2的解离第31-32页
        3.3.3 C和CH的氧化第32-35页
            3.3.3.1 C和CH被氧原子氧化的表面反应第32-33页
            3.3.3.2 C和CH被OH氧化的表面反应第33-35页
        3.3.4 H_2和H_2O的生成第35-36页
    3.4 去除积炭和在FeO/Ni(111)界面处的DRM反应的活性第36-38页
    3.5 主要的反应路径第38-39页
    3.6 本章小结第39-40页
第四章 总结和展望第40-41页
    4.1 总结第40页
    4.2 展望第40-41页
参考文献第41-50页
作者简介及攻读硕士学位期间发表和完成的论文第50-51页
致谢第51页

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